仪器对比
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1.产品概述：
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成。
2.产品应用：
在实际应用中，这种系统常用于半导体、光电子、有机电子等域，用于制备各种有机薄膜、金属薄膜或复合薄膜，以满足不同器件和材料的研究与开发需求。
3.真空室:
沈阳科学仪器的高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统 DZ350的详细介绍可能因具体型号和配置而有所不同
真空室结构:U形开门
真空室尺寸:φ350×400mm
限真空度:≤6.6E-5Pa
沉积源:2个钨舟、2个有机源
样品尺寸，温度:50mmx50mm，1片，高300℃
占地面积（长x宽x高）:约2.5米×1.2米×1.8米
电控描述:采用先进的控制系统，方便用户设置和调整工艺参数，如蒸发温度、沉积时间等。
手动：样品台：拥有可旋转或可移动的样品台，以便均匀沉积薄膜。
工艺:不含工艺
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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