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1.产品概述：
NEXUS IBD是由VEECO研发的第三代NEXUS® 离子束沉积 （IBD），适用于硬偏置、引线、绝缘层和传感器堆栈沉积。
2.产品原理：
离子束辅助沉积的原理是在离子束的作用下，将气态或液态物质引导到材料表面，通过物理或化学反应，形成固态薄膜。 离子束辅助沉积具有沉积温度低、薄膜质量高、可控制性好等优点，因此在光电、电子、能源等领域得到广泛应用。
3.产品优势：
数据存储制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 离子束沉积 （IBD） 系统大幅提高 80Gb/in2 传感器的产量，并满足未来 TFMH 设备制造的需求。
支持各种设备，从当的 CIP 到高 CPP 设备
MRAM 应用以及 GMR 和 TMR 薄膜磁头的理想选择
改进了所有准直沉积应用的 CD 控制
通过沉积羽流的对称到达获得更锐利的起飞角度
平台易于与 PVD、IBE 和其他技术集成
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
离子束沉积设备信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于离子束沉积设备报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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