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1. 产品概述
Shale® C系列电感耦合等离子体化学气相沉积设备（ICP-CVD）是一款先进的薄膜沉积设备，它结合了电感耦合（ICP）和电容耦合（CCP）技术，为用户提供了一种高效、可靠的薄膜沉积解决方案。
该设备通过高密度等离子体的产生，实现了极低的沉积温度，这不仅能够保护基材，减少热损伤，还能确保薄膜的高致密性与优异的填充能力。该工艺适用于多种材料的沉积，尤其是在对薄膜质量有高要求的应用中表现优越。
此外，Shale® C系列设备采用了符合国际标准的零部件，这些组件是8英寸产线设备中的常用标准部件，确保了设备的兼容性与可维护性。设备的设计遵循SEMI的严格标准，确保其在半导体行业中的稳定运行及高度可靠。
在产品性能方面，Shale® C系列经过了一系列严格的稳定性和可靠性测试，验证了其在长时间连续运行下的表现。这使得该设备成为高端制造过程中的理想选择，适合用于大规模生产和研发实验。
2. 系统特性
可在低温（<120°C）下沉积高致密薄膜，其致密性不亚于LPCVD在750°C生长的薄膜
可有效降低等离子体损伤，从而降低漏电，漏电流密度与原子层沉积（ALD）制备的薄膜相当
可提供高深宽比薄膜填充工艺
可选8/6英寸电，适用于不同尺寸的晶圆
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
8英寸电感耦合等离子体化学气相沉积设备信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于8英寸电感耦合等离子体化学气相沉积设备报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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