EVG 850   SOI的自动化生产键合系统
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EVG 850 SOI的自动化生产键合系统

参考价:¥100万 - 150万
型号: EVG®850 SOI的自动化生产键合系统
产地: 奥地利
品牌: EVG
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核心参数
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EVG®850   Automated Production Bonding System for SOI

EVG®850   SOI的自动化生产键合系统

 

自动化生产键合系统,适用于多种融合/分子晶圆键合应用

 

技术数据

SOI晶片是微电子行业有望生产出更快,性能更高的微电子设备的有希望的新基础材料。晶圆键合技术是SOI晶圆制造工艺的一项关键技术,可在绝缘基板上实现高质量的单晶硅膜。借助EVG850 SOI生产粘合系统,SOI粘合的所有基本步骤-从清洁和对准到预粘合和红外检查-都结合了起来。因此,EVG850确保了高达300 mm尺寸的无空隙SOI晶片的高产量生产工艺。 EVG850是唯一在高通量,高产量环境下运行的生产系统,已被确立为SOI晶圆市场的行业标准。

 

特征

生产系统可在高通量,高产量环境中运行;     自动盒带间或FOUPFOUP操作

无污染的背面处理;                         超音速和/或刷子清洁

机械平整或缺口对齐的预粘合;               先进的远程诊断

技术数据

 

晶圆直径(基板尺寸):100-200150-300毫米

全自动盒带到盒带操作

 

 

 

预粘接室

对齐类型:平面到平面或凹口到凹口

对准精度:XY:±50 μm,θ:±0.1°

结合力:最高5 N

键合波起始位置:从晶圆边缘到中心灵活

真空系统:9x10-2 mbar(标准)和9x10-3 mbar(涡轮泵选件)

 

清洁站

清洁方式:冲洗(标准),超音速喷嘴,超音速面积传感器,喷嘴,刷子(可选)

腔室:由PPPFA制成(可选)

清洁介质:去离子水(标准),NH4OHH2O2(最大)。 2%浓度(可选)

 

旋转卡盘:真空卡盘(标准)和边缘处理卡盘(选件),由不含金属离子的清洁材料制成

旋转:最高3000 rpm5 s


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