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  • 科技服务,助推光电子领域全产业链的“中国制造2025”——第九届光电子· 中国博览会
    p style=" text-align: center " img src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201701/insimg/a4e458fc-a0d1-4fbb-8a20-1ddbb18e8217.jpg" title=" 1.png" / /p p   誉满全球的光电子· 中国博览会(PHOTONICS CHINA EXPO)是全球最大规模的覆盖光电子领域全产业链的技术交流与展示平台。2017年第九届光电子· 中国博览会暨第四届中国(北京)国际高新技术交流展洽会,将于2017年6月6-8日在北京· 中国国际展览中心(新馆)盛大开幕,位于北京市顺义区天竺地区裕翔路88号。让您真正领略:高新成果与新兴产业无缝对接,科技服务助推“中国制造2025”。 /p p    span style=" color: rgb(255, 0, 0) " strong 十大主题展将资本引向技术,将技术推向市场 /strong /span /p p   光电子· 中国博览会经过九年累足成步,已经发展成为全球最大规模的覆盖光电子领域全产业链的技术交流与展示平台,2017年将分设全球创新技术主题展、光谱中国—光学仪器及测试测量设备主题展、激光工业设备主题展、光学制造主题展、红外与微波技术应用主题展、光通信与光传感主题展、机器视觉主题展、3D打印与工业制造主题展、测控仪器与设备主题展虚拟现实与可穿戴设备主题展等十大主题展,总展出面积超过50000平方米,预计将有来自国内外2000余家高校及企业参展,10万余名专业买家和观众到场参观采购。 /p p   全球创新技术主题展:中国光学工程学会建立重点实验室创新平台,目的是结合国家科技创新驱动发展战略,有效整合国家光学工程、光电子技术行业的各种重点实验室资源,运用现代网络信息平台,建立技术、专家共享机制。充分发挥重点实验室技术创新能力强、具备科技人才资源的优势。 /p p   光谱中国—光学仪器及测试测量设备主题展:将世界的先进的测试测量产品、先进的检测手段和理念与国内实际检测需求交汇融合,并能得以完美体现 希望能尽情展现中国测试测量与检测企业的风采,搭建测试测量行业“产、学、研、用”的互动交流平台,同时“十三五”规划中重点发展的环境监测、冶金、化工、钢铁、矿山、水泥、电力,水利、石油化工、石化煤气层监测、城市管网建设等众多领域都将为其应用带来无限的拓展空间。 /p p   激光工业设备主题展:为快速发展并拥有巨大潜力的激光加工市场提供专业展示交流与贸易平台,重点着眼激光加工技术的实际应用,突出国防领域应用,深度剖析从理论到工程化应用的全过程,全面展示从实验室研究到工厂应用的激光生产与加工系统,包括激光材料加工系统,激光加工系统组件,激光配套产品设计与系统开发,其他激光应用系统,系统整合等类别,重点关注激光钣金加工,非金属加工,精细加工,行业解决方案及特种应用等。 /p p   光学制造主题展:光博会最早涉及的光电展示领域,组委会全力打造光学产品技术展示与商贸平台,经过多年对光学产业供应链的梳理和市场分析,参展产品线涵盖从光学材料、元件、 镜头组件到整机仪器生产领域,产业链齐全,紧密联系国内外众多供需单位,分专题组织灵活多样的对接洽谈会及产品推介会,全面服务参展企业。 /p p   红外与微波技术应用主题展:中国规格最高的光电子与微电子专业展会,多年来得到中国科技部、航空航天、兵器集团、中科院、中船重工等十多个政府部门的大力支持。上届展会,科技部项目司科技项目亮相展会 科研院所及行业巨头高管纷纷亮相开幕式及同期活动 此外还有众多协会、商会、媒体、行业巨头的大力支持、成长迅猛、效果显著。同期举办多场研讨会和高峰论坛及对接洽谈会。 /p p   光通信与光传感主题展:“光”与我们的生活息息相关,光网络已经成为国家重要的信息基础设施,奠定了是智慧城市的发展基础,也支撑着下一代互联网、移动互联网、物联网、云计算和大数据等战略性新兴产业的发展。光纤传感技术研究伴随着光纤技术和光通信技术,成为近年来发展最快的高科技应用技术之一,该技术的应用已经从国防领域发展到了电力、石油、石化、交通、公共安全等各个领域。 /p p   相机与成像系统主题展:致力于打造业内产品、技术交流展示与商贸平台,经过多年对行业产业供应链的梳理和市场分析,融合中国制造2025、德国工业4.0、美国工业互联网+ ,聚焦行业发展,让企业提高核心技术竞争力,使全球青睐中国“智”造! /p p   3D打印与工业制造主题展:作为光电子中国博览会专题特色展区,届时将展出3D打印设备、3D打印软件、3D打印材料以及相关配套产品,本届大会将集高新技术展示、行业论坛、以及高新技术成果交易和经贸洽谈会为一体,充分展示我国3D打印行业高新技术的现状与成就,为推动中国3D打印产业的国际交流与合作做贡献。 /p p   智能穿戴主题展:智能穿戴设备是意义深远的一类科技设备,它将引领下一场可穿戴革命,我们正迈向一个技术与人们互动的新世界。谷歌、苹果、三星、微软、索尼、奥林巴斯等诸多科技公司争相加入到可穿戴设备行业,在这个全新的领域进行深入探索。2016年全球可穿戴智能终端的出货量将超过1亿部,至2018年可能超过3亿部。 /p p   国防光电子主题展:为在信息化战争中保持优势,世界主要国家和地区积极发展国防光电子装备,力争使作战要素达到优秀组合,从而赢得战争主动权。为贯彻落实党中央提出的“坚持科学发展观,提高自主创新能力”的指示精神,促进军民融合加快国防和军队信息化发展,主题展将在工信部军民结合推进司、国家国防科技工业局、北京政府部门的指导下举行。 /p p    span style=" color: rgb(255, 0, 0) " strong 三大主题活动全面汇聚科研院所高校最新技术成果,为企业发展助力 /strong /span /p p   第九届光电子· 中国博览会现场将举办全球光电子产业应用峰会、中国光学工程学会科技创新奖及2017年京津冀协同发展成果转化及项目对接大会等三大主题活动。内容丰富,直击热点,非常值得莅临,把握行业最新科研进展和市场趋势,抓住行业发展机遇和投资机会。 /p p   全球光电子产业应用峰会包括2017光信息与光网络大会暨第六届中国(北京)国际光纤传感技术及应用大会、2017国际激光制造与应用创新研讨会暨国际激光制造产业联盟成立大会、第六届红外与微光技术高端论坛、2017中国光谱应用产业发展论坛、2017虚拟现实技术创新及发展论坛及2017测控技术及产业应用大会。 /p p   中国光学工程学会科技创新奖包括“中国光学工程学会科技创新奖”创新技术奖、“中国光学工程学会科技创新奖”创新产品奖及中国光学工程学会金国藩青年科技创新奖。 /p p   2017年京津冀协同发展成果转化及项目对接大会包括高校实验室展成果转化对接洽谈会、创新项目投融资项目对接会、孵化器及产业园区投资洽谈会、军民融合科技成果与项目采购对接会、高校实验室需求采购会、第五届光学制造技术及产业应用对接会、2017机器视觉市场需求暨采购对接会、光学仪器及测试测量设备采购对接会、可穿戴设备与虚拟现实项目路演、红外新产品与项目路演、安防企业项目路演、激光制造系统与激光器采购对接会及光通信与光传感新产品与项目路演。 /p p    span style=" color: rgb(255, 0, 0) " strong 2016完美收官,2017再创辉煌 /strong /span /p p   2016年5月9日-11日,在中国科学院和中国工程院院士牵引下,2016年中国(北京)国际高新技术交流展洽会暨2016年光电子· 中国(Photonics China 2016)博览会,在北京国家会议中心成功举办。800余家知名光电企业参与此次盛会。设立光谱中国、中国Libs、红外设备、激光加工、精密光学加工、光纤传感、光通信、虚拟现实等专业展区。2017年移师北京市顺义区天竺地区裕翔路88号的北京· 中国国际展览中心(新馆),场地更大,活动更丰富!更多精彩活动、更多参展企业,将陆续揭晓! /p p br/ /p
  • 先进光电子技术国际实验室揭牌
    p   2015年9月8日,由北京信息科技大学联合清华大学、英国剑桥大学成立的先进光电子技术国际合作联合实验室在北京信息科技大学揭牌。 /p p   先进光电子技术国际合作联合实验室基于全息技术,涉及新型光开关及光电子器件、光纤传感与检测系统、智能化大型多功能光窗口技术、光电子生物传感器及医疗仪器等研究领域。该实验室的研究成果将极大降低光通信成本,提升光通信速度。 /p p   先进光电子技术国际合作联合实验室建设以教育部国际合作联合实验室计划为指导,依托学校学科优势,努力探索国际合作新途径,借力剑桥大学的基础研究与清华大学的核心技术,推动我国光电子技术与光电子仪器、光电子器件的原始创新,建设具有国际先进水平的光电子技术、仪器与传感器的研发平台,加快光电子高技术成果转化与产业化进程。 /p p /p
  • 1300万!中国科学技术大学多功能原位X射线光电子能谱仪、X射线光电子能谱仪采购项目
    一、项目基本情况(一)项目编号:OITC-G230320045项目名称:中国科学技术大学X射线光电子能谱仪采购项目预算金额:550.000000 万元(人民币)最高限价(如有):550.000000 万元(人民币)采购需求:1、采购项目的名称、数量:包号货物名称数量(台/套)是否允许采购进口产品1X射线光电子能谱仪1是投标人须以包为单位对包中全部内容进行投标,不得拆分,评标、授标以包为单位。2、技术要求详见公告附件。合同履行期限:详见采购需求本项目( 不接受 )联合体投标。(二)项目编号:OITC-G230322023项目名称:中国科学技术大学多功能原位X射线光电子能谱仪采购项目预算金额:750.000000 万元(人民币)最高限价(如有):750.000000 万元(人民币)采购需求:采购需求:1、采购项目的名称、数量:包号货物名称数量(台/套)是否允许采购进口产品1多功能原位X射线光电子能谱仪1是 投标人须以包为单位对包中全部内容进行投标,不得拆分,评标、授标以包为单位。2、技术要求详见公告附件。合同履行期限:详见采购需求本项目( 不接受 )联合体投标。二、获取招标文件时间:2023年09月28日 至 2023年10月11日,每天上午9:00至11:00,下午13:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:www.oitccas.com方式:登录东方招标平台www.oitccas.com注册并购买。售价:¥600.0 元,本公告包含的招标文件售价总和三、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名 称:中国科学技术大学     地址:安徽省合肥市金寨路96号         联系方式:0551-63602706      2.采购代理机构信息名 称:东方国际招标有限责任公司            地 址:(北京):北京市海淀区丹棱街1号互联网金融中心20层、(合肥):合肥市高新区创新大道2809号置地创新中心28层2815室            联系方式:(北京):窦志超、曹山、王琪 010-68290502、郑文彬、李文海0551-66030322            3.项目联系方式项目联系人:窦志超、曹山、王琪、郑文彬、李文海电 话:  010-68290502/0551-66030322

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  • 【求助】求《光电子光谱学》或《x线光电子分光法》等书

    我现在在读量子半导体专业,由于之前的专业和目前的没有联系,所以从头学起。目前遇到关于XPS的分析方面的困扰,因为没什么基础,所以想寻求这方面的书。现求《光电子光谱学》或《x线光电子分光法》等书的下载,请大虾们帮忙,最好是中文版,不过英文版的也可。在此谢过了。

  • 光电子能谱原理

    http://www.physics.fudan.edu.cn/equipment/YuanLi_guangdianPu.htm1. 引言光电子能谱同其他各种表面分析手段一样,首先经物理学家之手开创,并随着它不断完善,在化学、金属学及表面科学领域内得到了广泛的应用[1]。历史上,光电子能谱最初是由瑞典Uppsala大学的K.Siegbahn及其合作者经过约20年的努力而建立起来的。由于它在化学领域的广泛应用,常被称为化学分析用电子能谱(ESCA),但是,因为最初的光源采用了铝、镁等的特性软X射线,此方法逐渐被普遍称为X射线光电子能谱(XPS)。另外,伦敦帝国学院的D.W.Turner等人在1962年创制了使用He I共振线作为真空紫外光源的光电子能谱仪,在分析分子内价电子的状态方面获得了巨大成功,在固体价带的研究中,此方的应用领域正逐步扩大。与X射线光电子能谱相对照,此方法称为紫外光电子能谱(UPS),以示区别。2. 基本原理光电子能谱所用到的基本原理是爱因斯坦的光电效应定律。材料暴露在波长足够短(高光子能量)的电磁波下,可以观察到电子的发射。这是由于材料内电子是被束缚在不同的量子化了的能级上,当用一定波长的光量子照射样品时,原子中的价电子或芯电子吸收一个光子后,从初态作偶极跃迁到高激发态而离开原子[2]。最初,这个现象因为存在可观测得光电流而称为光电效应;现在,比较常用的术语是光电离作用或者光致发射。若样品用单色的、即固定频率的光子照射,这个过程的能量可用Einstein关系式[3]来规定:式中hν为入射光子能量,Ek是被入射光子所击出的电子能量,Eb为该电子的电离能,或称为结合能。光电离作用要求一个确定的最小光子能量,称为临阈光子能量hν0。对固体样品,又常用功函数这个术语,记做φ。对能量hν显著超过临阈光子能量hν0的光子,它具有电离不同电离能(只要Eb<hν)的各种电子的能力。一个光子对一个电子的电离活动是分别进行的。一个光子,也许击出一个束缚很松的电子并将高动能传递给它;而另一个同样能量的光子,也许电离一个束缚的较紧密的电子并产生一个动能较低的光电子。因 图见网页。图1 用Mg KαX射线激发的氖PE谱 此,光电离作用,即使使用固定频率的激发源,也会产生多色的,即多能量的光致发射。因为被电子占有的能级是量子化的,所以光电子有一个动能分布n(E),由一系列分离的能带组成。这个事实,实质上反映了样品的电子结构是“壳层”式的结构。用分析光电子动能的方法,从实验上测定n(E)就是光电子能谱(PES)。将n(E)对E作图,成为光电子能谱图(如图1)。如上图那样简单的光电子谱图,对电子结构的轨道模型提供了最直接的,因而也是最令人信服的证据。严格的讲,光电子能谱应该用电离体系M+的多电子态方法来解释,比用中性体系M的已占单电子态(轨道)为好。3. 系内仪器资源我们系现有英国VG公司ADES 400角分辨电子能谱仪,它是一台大型超真空多功能表面分析设备。多年来,经过侯晓远教授实验室的多次改进,增加了快速进样装置和一台国产小型分子束外延装置[4],使实验者可以在不暴露大气的情况下,对自行生长样品的表面与界面进行分析测试;同时通过改进控制单元与计算机的接口,由原来的手动调节、机械录谱变为由计算机控制扫谱参数并记录扫描结果。图见网页。图2 多功能电子能谱仪与分子束外延装置的联机系统 ADES 400角分辨电子能谱仪系统如图(2)所示。整个系统由分析室(主室)、预处理室(预室)、快速进样室及小型MBE生长束源炉室四部分组成。电子能谱仪的本底真空度优于5×10-8Pa,配备有Ar离子枪可以处理样品,俄歇电子能谱(AES)测量样品表面化学状态,低能电子衍射(LEED)测量样品表面结构,另外该装置还有配备了双阳极X光枪(Al和Mg靶),可以做紫外光电子能谱(UPS)。生长室本底真空度优于3×10-8Pa,生长过程真空度优于3×10-7Pa。生长室中可以同时装5个由循环水冷却的蒸发源,同时还配备了一个可以对样品的表面晶体结构进行原位实时测量的反射式高能电子衍射(RHEED)装置,样品的生长速率可以由晶体振荡器来测量,而且样品架有加热装置,可以用来处理样品或对样品在生长时加温,此外,生长室还安装了可以自动控制的劈形样品生长装置。有关这套劈形样品生长装置的消息介绍可以参考论文[5]。因此这套设备可以用分子束外延的办法生长磁性金属和合金,然后再分析室进行一些表面测量,制备好的样品,用金或银做为保护层覆盖后,再拿出真空室进行结构和磁性测量。 4. 参考文献[1] 染野檀,安盛岩雄,《表面分析》,科学出版社(1983)[2] 王华馥,吴自勤,《固体物理实验方法》,高等教育出版社(1990)[3] A.Einsten, Ann.Phys.,17, 132(1905)[4] 朱国兴,张明,徐敏,《半导体学报》, 14,719(1993)[5] 丁海峰,硕士论文,1998,复旦大学

  • 光电子器件环境可靠性试验方法

    光电子器件环境可靠性试验方法

    如今,通信设备的制造厂商,对光电子器件的可靠性要求越来越高,光电子器件和通信设备的制造厂商之间没有专门的、统一的光电子器件可靠性试验很难进行有效的沟通,影响产品可靠性的提高。而电子器件可靠性评估是指对电子器件产品、半成品或模拟样片(各种测试结构图形),通过各种可靠性性试验、加速寿命试验和快速评价技术等,并运用数理统计工具和有关模拟仿真软件来评定其寿命、失效率或可靠性质量等级。下面,雅士林整理了光性的试验方法供给大家参考。[align=center][img=,600,600]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/06/202206291702592424_851_1385_3.jpg!w600x600.jpg[/img][/align]  1、高温贮存:确定光电子器件能否经受高温下的运输和贮存,以保证光电子器件经受高温后能在规定条件下在[b][url=http://www.instrument.com.cn/netshow/C27536.htm]高低温试验箱[/url][/b]正常工作。  试验条件如下:  贮存温度:(85±2)℃或贮存温度;  贮存时间:2000h。  进行试验:  A)试验前测试试样的主要光电特性;  B)把光电子器件贮存在规定试验条件的高低温试验箱中,在开始计时之前应有足够升温时间,使所有试样处在规定的温度下,温度传感器应位于工作区内温度。  C)在达到规定的试验时间后,把试样从试验环境中移出,放置24h,使之达到标准测试条件,并对试样光电特性进行测试。验完成后,应在48h内完成试样的主要光电特性测试,并进行目检。当有规定时,也可以在试验过程中的某些时刻进行测试。  2、恒定湿热:本试验的目的是测定光电子器件承受高温和高湿的能力,以及高温和高湿对器件的影响程度,保证光电子器件的长期可靠性。试验设备为在加载负荷时能为工作区提供和控制规定的温度、湿度、热容量和空气流量的恒温恒湿试验箱。  试验条件如下:  温度:+85℃;  湿度:85%RH;  保持时间:500h(不加偏置)或1000h(加偏置);  规定的偏置电压或电流(适用时)。  进行试验:  a)试验前对光电子器件的主要光电特性进行测试;  b)将光电子器件放进恒温恒湿试验箱内,其摆放位置不应妨碍试样四周空气的流动;  c)试样在规定条件下连续完成规定的试验时间。  d)试样基材或外包材(如封帽,引线,封套等)腐蚀面积超过5%,或贯穿性腐蚀;  e)引线损坏或部分分离;

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  • 备受赞誉的Thermo Scientific K-Alpha X射线光电子能谱仪(XPS)集合了卓越的性能、快速分析及杰出的化学灵敏度等优势。K-Alpha将前沿的单色化XPS优异性能与全智能自动化完美结合,尤其适合于多用户环境。K-alpha的易操作性,可同时满足经验丰富的XPS分析人员和初学者的需求。分析选项包括用于角分辨XPS数据采集的倾斜模块和用于空气敏感样品传输的可循环惰性气体手套箱。 强大的性能可选面积能谱深度剖析微聚焦单色器高分辨率化学态能谱快照采集绝缘样品分析定量化化学成像 无可比拟的易用性一键式样品导航和实验设定自动样品传输按需校准全能谱仪设定离子枪设定完全计算机操作 世界一流的软件 仪器控制 数据采集 数据解析 数据处理 报告生成 数据存档管理 审查跟踪日志 系统性能日志如您想了解更多关于K-Alpha X射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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  • 岛津/Kratos X射线光电子能谱仪AXIS Nova——最新成像自动型,业界领先位于英国曼切斯特的Kratos公司是世界上最早生产商品化X射线光电子能谱仪的厂家之一,现在是世界上最大的分析仪器制造公司——岛津公司的全资子公司。自1997年以来,岛津/Kratos公司研发了包括专利的磁沉浸透镜和专利的低能电子荷电中和系统等一系列新技术的新型光电子能谱仪——AXIS Ultra,并于2002年底推出了使用二维阵列检测器——延迟线检测器(Delay-Line Detector)的最新自动型AXIS Nova型XPS谱仪。截至2014年1月底,在世界上已经销售了超过100台AXIS Nova型XPS谱仪,在世界上许多著名的大学、科研机构和企业公司中得到了高度的认可,在业界处于绝对领先地位。 技术特点:Axis Nova采用大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取最高的检测灵敏度,同时采用165mm大平均半径的双聚焦半球扇形能量分析器,可以获得最高的XPS谱线能量分辨。在检测器端,Axis Ultra DLD采用位于能量分析器出口中心位置上的第二代专利的二维阵列延迟线检测器,可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置,亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。Axis Nova采用与静电传输透镜同轴的超低能单电子源荷电中和器,完全满足各类绝缘样品的XPS分析任务,尤其是对于表面凸凹不平的样品(典型的是粉末样品和断口样品),可以获得完美的分析结果。Axis Nova使用专利的与采谱能量分析器同心的球面镜能量分析器,可以获得高空间分辨的平行光电子图像,亦即可以获得元素的不同化学状态的二维分布。Axis Nova采用全自动的大样品台设计,最大样品可达4吋,可以利用进样室的光学显微镜确定分析位置,并在样品自动进入分析室以后实现预设位置上的全自动XPS分析。
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  • 表面和界面分析充满了挑战,需要一款仪器能够为后续的研发改进提供可靠的结果。Thermo Scientific Nexsa G2表面分析系统是一款高性能 X 射线光电子能谱仪,在保证数据质量和样品测试通量的同时,集成了其他分析技术。与所有 Thermo Scientific XPS 系统一样,Nexsa G2 系统也使用 Avantage 进行仪器控制、数据处理和报告生成。无论是在专业的研究实验室,还是在多用户环境中工作,Avantage 灵活易用、功能齐全、操作直观的特性,可帮助不同水平的用户实现样品分析。为什么选择 Nexsa G2 系统?高效的科研级能谱仪新型微聚焦单色化X射线源可实现以 5 μm 步长的 10 μm 至 400 μm 的 X 射线光斑大小连续可调,从而确保将分析束斑调节至与目标特征匹配,最大程度地增强信号。利用升级的X 射线源、高效的电子透镜和优化的检测器,可实现卓越的灵敏度和高效的数据采集。绝缘体分析Nexsa G2 系统上的一键式自动电荷补偿系统可轻松实现绝缘样品分析。专利的双束中和源避免绝缘样品发生荷电,因为使用极低能量的电子,大多数情况下将无需进行荷电校正。深度剖析Nexsa G2 系统配备有标准离子源或 MAGCIS(可选的单粒子和气体团簇复合型离子源) 进行深度剖析。自动离子源优化和气路控制可确保卓越的性能和实验重现性。多技术联用使用 Nexsa G2 系统,所有技术将触手可及,一套系统全面分析您的样品。标准配置具备高性能 XPS 所需的所有功能,ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身。升级选项可将系统转换为完整的分析工作站,有助于解决材料分析问题,提高生产效率。特殊样品台可选Nexsa G2增加了多种样品台可选,以满足科研的特殊应用需求。特殊可选样品台有:NX 加热台,用于原位的样品加热分析;多触点偏压样品台,可实现样品在真空系统中的施加电压,偏压或循环电极后的XPS原位分析;惰性气体转移腔,可实现空气敏感样品的真空/惰性气体保护转移;MCA样品台,用于XPS+SEM的关联分析,实现XPS技术和电子显微技术对样品的同一个分析区域采集数据,并进行比对分析。如您想了解更多关于Thermo Scientific Nexsa G2 X 射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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光电子相关的耗材

  • 单层石墨烯薄膜,10X10mm二氧化硅
    透明度:97%,外观(形状):薄,覆盖率:95%,石墨烯层数:1,厚度(原理上):0.345毫微米,场效应管电子AI203迁移率:2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率:4,000cm2/Vs,表面电阻:170欧姆平方米,晶粒尺寸:约10μm,SIO2/SI:干氧化物厚度:300毫微米(+/-5%),类型/搀杂剂:欠压复位、方向:100,电阻率:0.005 Ohm.cm,厚度:525+/-20μm,前端表面:单侧抛光,背面:蚀刻,粒子:10@0.3μm、应用:石墨烯研究、石墨烯晶体管和电子应用、石墨烯光电子学、等离子体和纳米光电,石墨烯探测器(测量光子通量或航天工业)生物传感器,生物电子学,航空工业(电子工业、热界面材料等)微电子机械系统,纳米电磁系统。
  • EPO-TEK银导电胶
    EPO-TEK银导电胶(EE129-4,H20E, H20S,H22) EPO-TEK 导电银胶产品是美国Epoxy Technology公司研制开发、生产的环氧(Epoxy)树脂胶系列产品之一,在微电子、电子线路、电工电器、电子零件、光纤光导、光学零部件的生产中有着广泛的应用。EPO-TEK产品有着优良的性能和严格的质量保证,尤其是有多种符合美军标和航空航天用产品,具有不可取代的地位。 银导电胶H20E主要应用:H20E属于填充银环氧树脂胶,是微电子/光电子行业芯片粘接的理想材料。用于快速芯片粘接,JEDEC LevelⅢ/Ⅱ塑料芯片封装,高功率/高电流器件及高功率LEDs应用,光电子行业LCDs/LEDs和光纤器件的封装;由于它高导热性,还广泛用于散热工艺;美国宇航局认可,无毒性,符合USP CLASS VI生物标准。银导电胶H20E在树脂主剂和固化剂中均添加了纯银粉末,可按1:1的比例混合。事实上,H20E是最容易使用的双组分环氧银胶,,是专为微电子工业使用而开发设计的。EPO-TEK H20E特别推荐使用于需要快速固化的高速环氧树脂芯片绑定系统。单组分体系是无法办到的。由于EPO-TEK H20E可以快速固化,它可作为电路的快速修补材料。EPO-TEK H20E可平面印刷,机械注胶或模冲移印。并且可耐受300-400℃金线融合温度。 H20S是H20E的改进版本,EPO-TEK H20S是平滑的,触变性,高度可靠的,双组分环氧银胶。不使用溶剂也可以获得优越的施工性能和绝对长的可操作时间。H20S特别推荐用于需要快速固化的高速环氧胶芯片粘接系统中。低的固化温度使其成为柔性回路和其它低应力要求的领域的理想材料。它广泛地应用于晶体振荡器和其它的精密芯片中。它也可用在混和电路/气密封装中芯片的粘接,例如:DIP和TO-CANS。 H22是双组分导电胶,混合比例是:100:4.5,pot life 16个小时。产品订购:货号产品名称规格12670-EEEpo-Tek® EE129-4 Adhesive1 oz12671-20EEpo-Tek® H20E Adhesive1 oz12672-20SEpo-Tek® H20S Adhesive1 oz12673-22 Epo-Tek® H22 Adhesive1 oz
  • H20E导电胶
    H20E Epo-Tek® 导电胶 导电银环氧树脂膏混合比例银树脂膏 /液体硬化剂:1:1。100% 固体,两组分银环氧膏,柔软、光滑、触变(搅拌或摇动时可减小粘度)的性能使其特别适用于微电子和光电子应用中的芯片粘接,具有良好的处理性能,室温下寿命周期长。适合于要求快速固化的应用如快速电路修复、丝网印刷等,承受温度可高达400°C。固化时间 (最小的粘接温度/时间)175°C ........45 seconds150°C ..........5 分钟120°C ........15分钟 80°C.........90分钟特性: ? 电阻率:0.16 ohms/sq/mil? 连续使用温度:200°C? 降解温度:410°C? 冷藏:不需要.? 低粘度:2000cps产品编号描述单位16014导电银环氧树脂膏, H20E Epo-Tek® , 28.35g 瓶
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