高速成像

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高速成像相关的耗材

  • TPX3Cam用于纳秒光子时间戳的单光子快速光学相机 (1.6ns时间分辨高速成像光学相机)
    总览荷兰ASI出品的TPX3Cam是一款用于光学光子时间戳的快速光学相机。它基于一种新型硅像素传感器,并结合了Timepix3 ASIC和读出芯片技术,适用于电子、离子或单光子等需要时间分辨成像的各种应用。TPX3Cam可以很容易地集成在桌上型研究装置中,也可以集成在同步加速器或自由电子激光环境中。使用TPX3Cam,可在速度映射成像设备中测量电子和离子。纳秒级的时间分辨率和数据采集速率使我们能够以前所未有的方式进行测量。TPX3Cam能够在400至1000 nm波长范围内以高量子效率同时对超过1000个光子的闪烁光进行成像和时间戳记。它可以在VMI(速度映射成像)装置中高效地记录撞击在MCP(微通道板)上的离子。 MCP耦合到一个快速P47磷光体屏,该屏产生响应离子撞击MCP的闪烁光。TPX3Cam放置在真空之外,能检测来自磷光体屏的闪光。在TPX3Cam中,所有单个像素都可独立工作,且能对伴随发生的' 事件' 进行时间戳记。 这就将成像传感器变成了快速数字转换器阵列,具有并行作用的空间和时间分辨率,因此可以同时记录多个离子种类,允许进行符合测量和协方差分析。 工作波长400-1000nm 技术参数优点光敏硅传感器波长范围:400 - 1000nm每像素的同时检测时间(ToA)和强度(ToT)时间分辨率1.6ns,有效帧率 500 MHz无噪声、数据驱动读数,高达80 Mhits/s (10Gb/s)灵活光学设计 下图:TPX3CAM能够同时对超过1000个光子进行成像和时间标记,在400到1000 nm波长范围内具有高量子效率。它可以在VMI(速度图成像)配置中有效地记录撞击在微通道板上的离子。MCP与快速P47荧光粉耦合,当离子撞击MCP时,该荧光粉会产生闪光。TPX3CAM,放置在真空之外,可以检测荧光粉的闪光。“在TPX3CAM中,所有单个像素都独立工作,能够对‘事件’进行时间标记。这将成像传感器转变成一个快速数化器阵列,具有空间和时间分辨率,同时发挥作用,因此可以同时记录多个离子种类,从而进行重合和协方差分析。"应用离子和电子成像TPX3CAM的应用包括飞行时间质谱中离子的空间和速度图成像;离子和电子的符合成像,以及其他时间分辨成像光谱类型。TPX3CAM能够以1.6 ns的时间分辨率检测离子撞击并对其进行时标记,从而可以同时记录所有碎片离子的离子动量图像。这种单检测器设计简单、灵活,能够进行高度差分测量。右边的图像显示了CH2IBr的离子TOF质谱,该质谱是在德国汉堡同步加速器的闪光光源下,用TimepixCam(TPX3CAM的之前型号)记录的,在强激光脉冲强场电离后,以及每个探测器的图像在TOF光谱中的峰值。单光子成像强化版TPX3CAM可以是单光子敏感的。在这种配置中,检测器与现成的图像增强器结合使用。应用包括宽场时间相关单光子计数成像(TCSPC),磷光寿命成像和任何需要时间分辨单光子成像的应用。 图像(a): 通过TimepixCam获得,TimepixCam是TPX3CAM的前一个模型。图像(b):对于(a)中所示的A1-A4区域,强度是时间的函数(磷光衰减),磷光衰减和拟合的残差具有单指数拟合。 规格传感器材料光敏性增强的硅波长范围400 - 1000 nm探测范围~1000光子/每像素 光学传感器活动区域14.1 x 14.1 mm2类型C型接口成像专用集成电路类型Timepix3像素间隔55 µm像素数量256 x 256阈值数量1吞吐量10 Gb/s 的情况下,高达80 Mhits/s1 Gb/s的情况下,高达15 Mhits/s停滞时间读数停滞时间为0时间分辨率1.6 ns有效帧速率 500 MHz像素击中停滞时间~1 µs读出模式数据驱动,通过每像素ToA和ToT检测同步时间和强度其他参数计算机接口1 Gb/10 Gb外部快门控制 有外部信号时间戳260 ps重量2.2 kg尺寸(长x宽x高)28.8 x 8 x 9 cm冷却空气采集软件Windows/ Linux/Mac的图形用户界面
  • 荧光显微成像系统配件
    荧光显微成像系统配件和欧洲进口的显微成像系统,可用于研究细胞形态、荧光探针检测(GFP)、荧光共振能量转移(FRET)和快速分子过程。荧光显微成像系统配件集成方案 使用的现代荧光成像技术极大得帮助科研人员研究细胞形态、荧光探针检测 量转移和快速分子过程。 提供实验所需的曝光时间,根据相机的设置 有效集成并优化同步各种部件 显微成像系统集成方案 已经成为研究活细胞和分子结构比不可少的科研工具 能够以相机的最大速度连续采集一系列图像 可以产生每秒幅的比率图像 在更短的时间内获得更好的实验数据 荧光显微成像系统配件 可编程控制的光源 时成像控制单元 显微成像系统科研型相机 显微镜适配器 成像软件和工作站 价值尽量减少光毒性 显微成像系统特点 时序控制准确: 满幅图像帧频最高可达图像分析灵活: 非常适合单个细胞或一组活细胞的动态过程的研究 荧光显微成像系统配件特点 图像采集和传输的控制达到微秒精度图像采集快速: 软件具有多维图像分析功能和各种应用模块 三维成像要求在轴上能够快速成像,才能获得重建数据 孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商,产品技术和性能保持全球领先,拥有包括凝胶成像仪在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类,世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系,确保每个一产品是用户满意的完美产品。 我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库,可在下单后12小时内从国外直接空运发货,我们位于天津保税区的进口公司众邦企业(天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。 更多关于显微成像系统价格等诸多信息,孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来,了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取!
  • 钙离子成像系统配件
    钙离子成像系统配件是测量显微镜下的生物样本中荧光强度的变化仪器高速钙成像系统,兼具高灵敏度和高速度的优势钙离子成像系统配件有单探测器和双探测器两种配置,分别对应于单发射和双发射实验,并且为比例测量提供特殊的双激发模式。钙成像系统特别适合: 测量或双发射实验 高灵敏度或高速实验 FRET测 无缝对接荧光和电生理学的实验 是测量荧光强度变化的高速钙成像系统,可用于钙离子浓度测,钙离子成像.钙离子成像系统配件基本配置包括可编程控制光源(用于安装到显微镜上)取景器(用于选择测量区域)荧光探测器(基于光电二极管技术)控制单元(具有信号处理功能)对于采集速度大于1KHz的实验,可使用光电倍增管替代光电二极管以满足高速测量的要求,但是这仅适用于单发射钙离子成像系统配件配置方案单通道荧光测光系统配置光源(多色光源rome V)取景器(配带相机和显示器)取景器显微镜适配器探测器配带控制单元一个或多个双发射滤波片立方体一个或多个双发滤波片组件钙离子成像系统配件特色取景器控制测量区域测量区域的大小和位置可通过取景器的视场自由定位视频可视化调节测量区域同时进行样品荧光测量和红光可视化测量区域重叠显示在样品的发射图像上光电二极管探测---高灵敏度且承受过度曝光具有超高灵敏度和极低噪音,量子效率高达97%耐用不怕过度曝光最大采集速率高达1KHz,使用光电倍增管可获得更高的速度控制单元带有荧光探测模块---简化数据采集钙离子成像系统配件应用 测量分子内离子浓度(钙离子,镁离子,钾离子,PH等) FR ET测量 单波长染料 不需要空间分辨率的所有荧光测量

高速成像相关的仪器

  • Invitrogen™ Attune™ CytPix™ 成像型流式细胞仪Attune CytPix是在Attune NxT流式细胞仪的基础上增加了明场成像功能,既保留了传统流式高速、高参数、大数据分析的优势,又增加了明场观察细胞形态、活性等信息,在生命科学研究、细胞治疗和生物技术开发等领域都有广泛的应用前景。其主要技术优势有: 声波聚焦技术,上样速度比传统流式细胞仪快10倍 高速成像功能,6000张图片/秒 专利抗堵设计,大细胞、黏细胞轻松上样 可达4激光16个参数,配置灵活,可现场升级 具备细胞绝对计数功能,同时可配置流式自动化工作站
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  • 微流控高速成像系统PG-HSV 系列简介微流控技术拥有快速分析处理等特点,因而不断促进许多空间微型化和试剂微量化的新技术的发展。微流控技术在时间和空间维度上的微型化,使得微流控芯片内的实验过程已经快到传统标准摄像机无法完整捕捉,因此,高速高分辨率且使用方便的显微镜成像系统逐步备受关注,将有效提高微流控实验研究的质量。PreciGenome高速成像系统是微流控研究人员的得力工具,集成触摸显示屏,帧率可达 38000FPS,拥有 3种照明模式,快门时间低至 1μs,非常适用于微流控实验中的流体观察、图像拍摄和视频录制。产品特色:即插即用式显微镜系统,集成高速 CMOS 成像传感器帧率可达 38000FPS,全分辨率 1280*1024 下帧率 1050FPS高品质光学部件,高分辨率成像,微流控实验清晰可见高放大倍率变焦,适用于 mm 到μm 级尺度观察3 种照明,适配绝大多数应用曝光时间低至 1μs,微颗粒(液滴、细胞流动等)成像频率达 MHz兼容 PreciGenome PG-MFC 高精密压力控制器,可通过 PG-MFC 高精密压力控制器触发相机成像或录像集成触摸显示屏,也可连接显示器(HDMI 接口),使用简单可靠附加功能支持定制,如荧光检测、更高倍放大等更多产品详情,请联系哲本仪器:
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  • SH6-504系列高速成像相机SH6-504系列是公司打造的一款功能全面的高速摄像机,采用了特殊定制传感器、电路设计使其具备170Gbps的有效带宽和成像质量。同时,其拥有丰富的可扩展接口,让高速成像的应用有了更多可能性。SH6-504系列高速成像相机特点双电源冗余供电接口设计机身内部非易失大容量存储器,最大支持20T丰富的ISP处理,高清优彩画质标配万兆网数据传输接口、兼容千兆网支持智能图像触发:随图像变化自动触发内存分区:最大支持64分区
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高速成像相关的试剂

高速成像相关的方案

高速成像相关的论坛

  • 神经元活动高速荧光成像系统简介

    [b][url=http://www.f-lab.cn/vivo-imaging/micam02.html]神经元活动高速荧光成像系统[/url][/b][url=http://www.f-lab.cn/vivo-imaging/micam02.html]micam02[/url]是专业为[b]神经元活动成像[/b]和[b]神经细胞活动成像[/b]而设计的[b]神经元高速成像系统[/b],具有超高信噪比,能够从[b]膜电压敏感染料[/b]中检测到极为微弱的[b]神经元信号[/b],具有对[b]电压敏感染料信号[/b]高灵敏的[b]高速荧光相机[/b]。神经元活动高速荧光成像系统micam02采用最高信噪比S / N的CCD / CMOS高速相机,它对神经元活动的成像非常有效,广泛用于[b]神经元成像,钙离子成像,膜电压成像,延时成像[/b]和常规高速成像。[img=神经元活动高速荧光成像系统]http://www.f-lab.cn/Upload/micam02-imaging.jpg[/img][b]神经元活动高速荧光成像系统micam02简介[/b]神经元活动高速荧光成像系统micam02采用brainvision公司高灵敏度高速成像系统,具有独特的空间分辨率,灵敏度,暗噪声和读出噪声性能。神经元活动高速荧光成像系统micam02具有采样速度1.7 kHz(micam02 CMOS)75%的量子效率(micam02 HR),68db动态范围(micam02 CMOS)。这种高性能参数有力保证了钙离子成像和膜电压成像应用。[img=神经元活动高速荧光成像系统]http://www.f-lab.cn/Upload/micam02_neuronal.jpg[/img][b]神经元活动高速荧光成像系统micam02特色[/b]可选CMOS摄像头和CCD摄像机。最大帧速率为1.7千赫。适合神经元活动成像,可检测微弱神经元信号 拍摄速度和空间分辨率动态可调,空间分辨率是40x28 - 376x252像素具有弱光成像模式新的“h-bin模式”功能,减少暗噪声,对于暗或荧光的情况非常有效。可用于双波长同步双摄像机成像系统神经元活动高速荧光成像系统micam02处理器有两个摄像头的端口,并可以作为一个可选的第二相机使用双摄像头系统,使同步记录。双摄像机系统可用于电压敏感染料或钙离子指示剂的比值成像,以及多探头成像。用户友好的软件数据分析软件”bv_ana,“里面有许多有用的功能,还包括获取能力以实验更简单,更流畅,更快。记录数据的快速分析能力使用户可以在不同条件下对单个生物样品进行多次实验。[b]神经元活动高速荧光成像系统micam02应用[/b]通过使用电压敏感染料如二-4-ANEPPS测量膜电位的变化高速钙染料成像FRET成像基于血红蛋白和Flavoprotein的内在成像双相机系统的荧光比率成像高速光强度微小变化的检测无创性脑片组织块传播成像神经元活动高速荧光成像系统[b]:[/b][url]http://www.f-lab.cn/vivo-imaging/micam02.html[/url]

  • 高速荧光成像系统特点

    这款[url=http://www.f-lab.cn/vivo-imaging/micam05.html][b]高速荧光成像系统[/b]micam05[/url]是专业为神经成像,钙成像应用而设计的[b]高速神经成像系统[/b],能够长时间高速成像和记录存储高速图像.高速荧光成像系统micam05具有超低噪音,非常适合[b]染料成像[/b]和[b]钙成像[/b]应用,也可用于[b]荧光蛋白质电压[/b]/钙指示剂,如FRET成像和[b]GCaMP成像,血红蛋白成像[/b]或[b]黄素蛋白成像[/b]。[b]高速荧光成像系统micam05特点[/b]采用USB3.0接口高速数据传输技术,外部设备的兼容性好,适合实时像素输出和额外的模拟输入。用于多种类型科研CCD相机具有多种CMOS相机提供不同的空间/时间分辨率,这些机头可以很容易地切换或更换。(不可能同时使用不同类型的摄像机头)。直接数据存储和USB3.0高速数据传输的长期数据采集新的USB3.0接口允许更快的数据传输处理器的PC可以直接硬盘或SSD数据采集并行,无论内存容量,几分钟到几小时的长期记录都可以。(注意采样率、像素数量、使用的相机数量和PC规格将影响总记录时间)。多达四个摄像头可以很容易地连接和使用在一个完全同步多摄像机的系统中。最多两相机接口板可以连接到micam05处理器。每个接口板配备两个摄像头端口,因此,多达四个的同类型的摄像头可以随时连接。这允许从不同的角度多个荧光波长及三维同时成像。实时光强度监视器/输出可用作标准功能。高速荧光成像系统:[url]http://www.f-lab.cn/vivo-imaging/micam05.html[/url]

  • 高速脑皮层成像仪介绍

    [url=http://www.f-lab.cn/vivo-imaging/celox.html][b]高速脑皮层成像仪3001CELOX[/b][/url]采用以色列optical-imaging公司的[b]电压敏感染料成像[/b]技术,配合高达10000Hz的VSD成像技术,广泛用于活体成像或体外成像,[b]VSD成像[/b]![b]高速脑皮层成像仪[/b]应用(体内和体外):在体内或体外的皮质功能架构VSD成像。同时有optogenetics VSD成像。固有的光学成像的皮层功能架构。电压敏感染料的心脏成像。微血管系统的探索。灵活的数据获取这台[b]高速脑皮层成像仪[/b]主要用于电压敏感染料信号的探测。它有一个比较大的可以达到脉宽108赫兹的感应器,而且有1000赫兹和多行扫描达到10000赫兹的操作。灵活的在线归档功能让你可以进行高速成像。[img=高速脑皮层成像仪]http://www.f-lab.cn/Upload/brain-imager3001.JPG[/img]高速脑皮层成像仪:[url]http://www.f-lab.cn/vivo-imaging/celox.html[/url]

高速成像相关的资料

高速成像相关的资讯

  • 第29届国际高速成像和光子学会议在日本召开
    9月20日之24日,“第29届国际高速成像和光子学会议”在日本盛岗市成功召开。来自美国、英国、德国、法国、俄罗斯、日本、中国、瑞典、波兰、南非、以色列等11个国家的100多位专家学者和展商出席了会议。西安光机所所长赵卫率八人代表团参加了此次会议。   本次会议历时五天,研讨涉及高速相机、高速成像光源、高速辐射X射线源和传感器、高速诊断和测量、高速光子计数和能量甄别、流体可视化、冲击波、弹道学、高级医学成像应用等议题和范围。会议期间,西安光机所赵卫研究员作了题为All-fiber high energy ultrashort pulse generation, amplification and high average power supercontinuum generation的特邀报告 姚保利研究员、赵宝升研究员、刘红军研究员、苏秀琴研究员、韦永林、鄢秋荣分别作了口头学术报告。   大会对在高速成像和光子学研究及应用工作中做出卓越贡献的科学家授予荣誉奖章。赵卫所长以其在高速成像和光子学研究领域中的突出贡献,被大会授予高速成像领域的最高奖“高速成像金奖”(High-Speed-Imaging Gold Award),成为西安光机所继龚祖同院士之后在“国际高速成像和光子学会议”上获得国际奖项的第二人。“高速成像银奖”被澳大利亚科学家Harald Kleine和日本科学家Toru Aoki获得。   “国际高速成像和光子学会议”原名“高速摄影和光子学会议”,自1952年起每隔二年举办一次,通常选定在本学科具有很高学术水平的国家举办。西安光机所曾于1988年和2006年两次成功举办过第18届和第27届“高速摄影和光子学会议”。该会议自2008年第28届起更名为“高速成像和光子学会议”。2012年“第30届国际高速成像和光子学会议”在南非召开。
  • 最新Science揭示高速成像技术的新模式及其应用前景!
    【科学背景】随着电子设备和系统在现代社会中的广泛应用,电介质材料的重要性日益凸显。电介质材料是从变压器、输电线路到卫星关键组件的基础材料,其稳定性和可靠性直接关系到通信、国防和商业系统的正常运行。然而,电介质击穿是导致这些系统失效的主要原因之一,但科学界对这一过程的理解还不完全。电介质击穿(ESD)是指电介质材料在受到足够高的电场时突然变得导电,导致破坏性的静电放电事件。ESD会在材料中留下类似闪电的树状损伤模式,这些永久性损伤痕迹被称为莱顿图(LFs)。尽管科学家已经对玻璃、环氧树脂、聚酰亚胺和聚乙烯等材料中的分支型LF进行了识别和研究,但对某些材料中常春藤型LF的存在和形成机制知之甚少。此外,虽然电气放电在纳秒尺度上发生已被广泛认可,但在较厚电介质材料中ESD的实际速度和通道形成机制仍未得到充分研究。有鉴于此,马里兰大学Timothy W. Koeth教授团队在“Science”期刊上发表了题为“Dynamics of high-speed electrical tree growth in electron-irradiated polymethyl methacrylate”的最新论文。他们通过对两种不同类型的电气树的电介质击穿通道传播动态进行分析,进一步揭示了电介质击穿过程中的关键机制。研究发现,常春藤型放电模式的传播速度接近材料中光速的5%,这是固态材料中直接视觉观察到的最快物理现象之一。这一发现不仅揭示了电介质击穿理论中的空白,还为材料工程师提供了新的思路,以设计和制造更不易受静电放电影响的电介质材料,从而提高现代电子、通信和国防系统的可靠性。【科学亮点】1. 实验首次发现并揭示新型ESD模式本实验通过对空间电荷加载的PMMA进行高精度高速成像,首次揭示了全新的静电放电(ESD)模式——常春藤型放电模式。该模式的发现填补了现有电介质击穿理论中的空白。2. 新型放电模式及其区别常春藤型放电模式与传统的分支型放电模式存在显著差异。通过实验观察,发现常春藤型放电的通道形成速度超过107米/秒,而分支型放电通道的形成速度为106米/秒。这一发现表明了电介质击穿过程中的不同机制及其复杂性。3. 空间电荷引起的ESD及其影响航天器充电导致的ESD可造成严重损害,占所有卫星故障的一半以上。研究表明,这类ESD事件可由太阳耀斑、地磁暴以及长期暴露于太阳能粒子引起。理解这些机制对于保障作者日常依赖的通信、国防和商业系统的持续功能至关重要。4. 高速成像技术在电介质研究中的应用通过使用千兆赫的帧率的高速成像技术,本实验不仅精确测量了电气树通道的形成速度,还证实了现有LF通道形成理论中的重大缺陷。该技术的应用为进一步探索电介质击穿现象提供了强有力的工具。5. 未来研究方向鉴于常春藤型放电模式的发现,本实验提出了新假设,即如果该击穿模式纯粹由电磁驱动,那么在任何具有足够高空间电荷密度的聚合物中都应能观察到。未来的研究将进一步探讨材料的物理和化学结构对电介质击穿过程的影响,为更好地预测和设计抗冲击材料奠定基础。【科学图文】图1:两个LF最终形式的图像。图2. 分支型LF引发状态的高速图像。图3. 常春藤型LF引发状态的高速图像。图4:随时间变化的平均通道长度。【科学启迪】本文的研究成果为电介质材料的电击穿现象提供了新的视角,揭示了电介质击穿过程中存在的常春藤型电气树这一新模式。这一发现不仅填补了现有理论中的重要空白,还对电介质材料的设计和应用具有深远的影响。通过高速度成像技术,作者首次观察到常春藤型电气树的传播速度超过107米/秒,几乎达到材料中光速的5%。这一现象的发现挑战了传统的分支型电气树理论,表明电介质击穿的机制可能更加复杂,需要新的理论框架来解释。在以前,作者对电介质材料的击穿行为的理解仍然存在很大的未知领域。常春藤型电气树的存在表明,电介质击穿不仅仅是由电场强度决定的,还可能受到材料内部空间电荷、电磁效应以及材料的电化学结构等多种因素的影响。因此,未来的研究需要更全面地考虑这些因素的交互作用,以构建更加精确的理论模型。文献信息:Kathryn M. Sturge et al. , Dynamics of high-speed electrical tree growth in electron-irradiated polymethyl methacrylate.Science 385,300-304 (2024).https://www.science.org/doi/10.1126/science.ado5943声明:因作者学识有限,难免有所疏漏和错误,如有不科学之处,恳请读者在下方批评指正!
  • 安洲科技组织“UHD185机载高速成像光谱仪飞行试验”
    2014年8月14日,“UHD185机载高速成像光谱仪飞行试验”在国家精准农业研究示范基地进行。本次飞行试验由北京安洲科技有限公司、德国Cubert公司共同组织进行,并得到了中国科学院、北京市农林科学院的大力支持。二十多位地理信息及遥感领域的专家学者应邀参观了本次飞行试验。本次飞行的UHD185机载高速成像光谱仪引起了在场专家学者的浓厚兴趣,各位专家与安洲科技技术人员就数据应用、技术创新等领域广泛交换了意见。备注: UHD185 机载高速成像光谱仪:利用具有革命性的全画幅高光谱成像技术,是目前高速成像光谱仪的最轻版本,结合了高光谱相机的易用性及高精度。通过这款光谱仪,可在1/1000秒内得到高光谱立方体!采用了独特的技术,建立了画面分辨率和光谱分辨率之间的合理平衡,实现了快速光谱成像而不需要扫描成像(如推扫技术)。 八旋翼无人机:飞行距离大于3公里,飞行时间大于30分钟;可预设航线,按照航行自主飞行,具备自动返航功能。 产品链接:http://www.azup.com.cn/html/2014/UAVHSI_0325/8.html
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