【讨论】关于TEM试样中Cu污染的问题

补充下，试样倒是放在一个铜的支撑架上的，但是不能解释，为什么只有界面处的铜含量非常高。

怀疑试样在反应过程中有污染，但是SEM测试又一点儿铜都没测出来。

在FIB制备试样过程中用的是镓离子，怀疑FIB制备过程中受到了Cu污染。怎么污染，则毫无头绪。

不懂，帮顶。。

有没有过程中用到铜网啥的。。。

会不会是电子束打偏了？

铜支撑架是环形的？

你做一下点分析，看看界面处的Cu是不是也很高。另外，做线扫的时候样品倾转过吗？

EDS里看到Cu不稀奇，但是界面出Cu很多就比较奇怪了。把实验结果包括高倍和低倍形貌像贴出来看看。SEM也可以线扫，如果分辨率还可以，做个SEM的线扫描比较一下。

做过点分析,结果同样是界面处铜含量很高.做线扫描的时候,试样没有倾转.铜支撑架是环形的.
SEM线扫描和TEM线扫描的试样都是从同一个试样上取的.但是SEM线扫描和点分析都没有铜,而TEM就都有.


在这张TEM线扫描图中,浅蓝色的是Cu,深蓝色的是Zr,绿色的是Al

上一张低倍的tem暗场,



和反应产物的标定结果 (选区在下面拿个粗大的反应产物上),ZrB2,晶带轴[-2 4 -2 3]

如果是污染Cu导致,那么界面不会如此干净。
莫不是你TEM带的eds的问题吧。