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请教:氩离子刻蚀后样品的荷电问题如何解决?

  • scientific
    2005/12/07
  • 私聊

XPS及其它能谱仪

  • 当绝缘样品经过长时间的氩离子轰击后,可能会导致样品表面累积大量的正电荷,荷电位移可以高达一百多电子伏特。
    累积的正电荷会随时间逐渐转移走,荷电位移因此逐渐减少,但很长时间都不能够稳定。例如窄扫过程中扫第一个元素时位移50eV,扫最后一个元素时位移40eV。使得荷电校正非常困难。
    请教你们在实践中是否曾经遇到这个问题?如何避免该问题的发生?
    我们的离子枪型号时EX05。曾经尝试在样品表面覆盖金属网以提高样品的导电性,但是效果不明显。
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  • 第2楼2005/12/07

    用电子枪中和了,电子束0.025mA,仍然很长时间不能够稳定。

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  • 第3楼2005/12/07

    你可以调节中和枪的电压啊!你们用多少的电压?

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  • 第4楼2005/12/07

    你的问题我遇到过,有两个比较有效的方法:1)用双阳极,位移要小的多;2)在刻蚀动作后面,采谱前设定一定的等待时间,还加个flood gun控制

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  • 第5楼2005/12/07

    我觉得您说的不对,因为我就刻蚀的时候应该用什么枪问过工程师,他告诉我说;因为一般来说,刻蚀的面积小要比双阳极扫的面积小,所以可能你双阳极打出来的区域就没有刻蚀,一般来说还是用单色器.通过调节电压来降低荷电位移.

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  • 第6楼2005/12/07

    feixiong5134 发表:我觉得您说的不对,因为我就刻蚀的时候应该用什么枪问过工程师,他告诉我说;因为一般来说,刻蚀的面积小要比双阳极扫的面积小,所以可能你双阳极打出来的区域就没有刻蚀,一般来说还是用单色器.通过调节电压来降低荷电位移.

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  • 第7楼2005/12/09

    呵呵,您其实也不必用这两个表情的,其实您对xps懂的那么多,应该是我感到 ,只不过是这个问题我刚刚问了工程师.凑巧会的.以后还要向您学习

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  • 第8楼2005/12/09

    小兄弟,以前的XPS没有装备单色器,他们一样刻蚀的。] 明白啦吗?

    feixiong5134 发表:呵呵,您其实也不必用这两个表情的,其实您对xps懂的那么多,应该是我感到 ,只不过是这个问题我刚刚问了工程师.凑巧会的.以后还要向您学习

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  • 第9楼2005/12/09

    哦,是这样的,但是我觉得哪个可能有误差啊!

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  • 第10楼2005/12/09

    不会的,大家都会考虑到这个问题的,刻蚀的面积大于x-ray束斑的面积,你想谁做也会 首先考虑这个问题。

    feixiong5134 发表:哦,是这样的,但是我觉得哪个可能有误差啊!

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