【求助】ICP-MS中的smpl depth

采样深度，是指炬管口(或者RF第一匝线圈)到采样锥(sampler cone)之间的距离。
炬管X-Y-Z位置调谐时，不要太注重采样深度的绝对数值(比如是7.0mm还是7.2mm)，它只有相对参考(靠近or拉远)。

是采样深度的

采样深度不是一个很重要的参数吗？我个人以为影响还是挺大的呀。

应助达人

他的意思是，这个距离值并不是炬管到采样锥之间的真实距离，而只是一个相对值。安捷伦的仪器的调谐条件里显示的sample depth是多少mm，这个我也问过他们的工程师，他也是说这只是个相对值。而热电的仪器上DA是从0-150，也只是个相对值。
等离子的火焰一样也分内焰、外焰带，不同的部位温度不同，离子化的效率也不一样，所以采样深度不同，一价离子、二价离子、氧化物离子的产率不同。调节采样深度也就是尽量使一价离子最高、二价离子和氧化物离子最低。
下图截至A Beginner’s Guide to ICP-MS：

应助达人

肯定是一个很重要的参数，采样深度大，在等离子体中运行的时间长，对于某些难电离的元素更有利!

tuxlin 版友补充得很好。每一次点火，等离子焰的三个区域Zone 与采样锥之间的距离都会有细微变化。这种相对位置关系，就好比 气流计(Mass Flow Controller)数值：今天显示0.80 L/min，可能实际流速只有0.78；明天显示0.80，但实际有0.81。

每次点火后都要例行调谐：不断调节雾化气流速，使得信号尽可能大、尽可能稳定、氧化物产率尽可能低。等玩熟了你就有体会，同一台仪器的雾化气最佳流速(气流计显示值)都在一个小范围内变化，实际数值真没太大意义。

它得取样深度的数据仪器是如何得出的？不知道是否有人知道？请教？

Agilent Varian Thermo四级杆ICP-MS，都是【质量分析器-检测器】这块固定不动，【炬管】这块可在导轨上滑动——这种设计很合理，因为【质量分析器-检测器】这块很沉重，理应让 轻模块挪动、去靠近重模块。当这两部分合拢封闭、准备点火时，【炬管】在导轨上的对应位置(每次合拢，这个位置都会有细微变化)被记为“采样深度 零点”。这三家ICP-MS在点火后，可以调节采样深度。

PE Elan系列四级杆ICP-MS是【炬管】这块固定不动，【质量分析器-检测器】这块在导轨上滑动。因此只能在熄火状态下取出炬管托架，调节采样深度后再装回去，重新点火、重新手拧调谐X-Y轴。如果采样深度仍然不合适，又要熄火再调……PE 新款NexIon 300 重新设计了接口，可以像Agilent Varian Thermo那样实时调节Z轴。

谢谢大家了，有这么好答案!