你的问题应该可以解决,把Si的测量时间延长一点,如测量30秒或40秒,应该就好了。另,Si是用PET晶体测量的,这块晶体受温度影响比较大,你仪器房间的温度最好恒定,一小时的变化温度不要超过2度。现在,Si也可以用XS-CEM晶体测定,这个晶体比PET晶体更稳定。
sangni(sangni) 发表:我用熔片法建了一条玻璃的工作曲线其中SiO2含量在50%-60%之间,建好后用一个片连续测量10次,发现SiO2的绝对误差在0.25%左右,这个误差范围我觉得比较大,这是仪器的问题吗?是什么原因造成的呢?其他元素又相差不是很大