feixiong5134
第6楼2006/03/08
不用客气。你得短信我已经看到,其实我也才搞XPS几个月。WUZL斑竹才是高手。
我看 文章上面说XPS一般采样深度为几个纳米,如果用角分辨XPS可以到十几个纳米,用深度剖析可以达到几百个纳米。缺点时前者操作麻烦,后者Ar离子有还原里面得氧化物得可能。如果你是怕表面被污染,那可以直接用刻蚀掉表面,但是它也有还原里面得氧化物得可能。
mybobo
第11楼2006/03/09
[quote]原文由 feixiong5134 发表:不用客气。你得短信我已经看到,其实我也才搞XPS几个月。WUZL斑竹才是高手。
我看 文章上面说XPS一般采样深度为几个纳米,如果用角分辨XPS可以到十几个纳米,用深度剖析可以达到几百个纳米。缺点时前者操作麻烦,后者Ar离子有还原里面得氧化物得可能。如果你是怕表面被污染,那可以直接用刻蚀掉表面,但是它也有还原里面得氧化物得可能。
谢谢feixiong5134的回答,对我很有帮助。不过还原氧化物是我不想发生的,那我有没有其他的办法,比如改变制样方法?我记得好像有人将样品制成粉末,各个成分混合均匀然后再制备成测试样,这样测表层就可以得到想要的信息了。不知道这样可行吗?
BTW,WUZL斑竹如果有空看到这个帖子能不能给做些指点啊,多谢了!