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关于描迹问题

直读光谱


  • 仪器在什么情况下就必须描迹,是多数元素光强下降?还是个别下降就应该做?

    有针对某个元素进行描迹这一说么?描迹不是针对所有元素么?选择一个适合绝大多数元素光强通过的入射狭缝位置,不是么?

    请大家给予深入的解释,谢谢!
  • 该帖子已被版主-云☆飘☆逸加2积分,加2经验;加分理由:话题
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  • wybwyb

    第1楼2012/06/21

    什么机器?如果是OBLF、ARL可向我咨询,一两句不太能解释得清楚。

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  • 云☆飘☆逸

    第3楼2012/06/23

    应助达人

    描迹是要校对光路啊,很重要的

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  • 3aaa3

    第5楼2012/06/26

    所有光谱仪大同小异,原理一样,只是方法不同而已

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  • 大漠孤洲

    第6楼2012/06/27

    定期做就可以,防范与未然,还有就是描迹描基体元素就可以,因为所有的元素都是同步的。

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  • cuihuakun

    第7楼2012/06/27

    描迹相当于调主折射镜角度,从成像角度来讲,便是调整入缝的像的位置,也就是调整入射角的角度,从而整体改变所有谱线的偏移,描迹不能针对个别元素,只能整体调整。针对个别元素的,只能是调整各个元素出缝前面对应的小折射镜。
    至于该何时描迹,何时不必描,是一种习惯,一般习惯在一天开始时描迹下,无论描迹值跑没跑,如果跑得多,可以趁此分析原因,若没跑,则正合心意。

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