ICP-MS
leemoonling
第1楼2012/07/23
楼主先晒一下吧
envirend
第2楼2012/07/23
单位性质:环境监测分析对象:水质、土壤、大气、食品仪器型号/安装年月:ICP-MS 7700x/2012.06仪器分析人员学历:本科、研究生备 注:
光哥
第3楼2012/07/23
斑竹,你们这么个大烟囱捅在ICPMS抽风口上,等下万一ICPMS抽风口那边要拆或者机器需要挪动挪动,那岂不是您老得拿个小锯子在那边锯啊锯的PS:LZ怎么没打算把计算机挪到机子的左边么?放在右边会不会觉得操作的时候不是太方便?
容百川
第4楼2012/07/23
老兄原来是搞环境监测的,多来我们版面指点一下哈!环境监测政策、标准、规范都可以谈
第5楼2012/07/23
好吧,这帖子虽然也不少了,还是积极响应下斑竹的号召吧:单位性质:私企分析对象:各种硅仪器型号/安装年月:7700s/2012仪器分析人员学历:小本屌丝一枚备注: 比较喜欢的还是这套锥新的时候的样子。不过本人比较懒,而且就我一个人干活,所以就3套轮流着用。再也没有新的可以得瑟的了:(使用前后对比明显啊)(晃眼的亮)无聊的晒单结束。请教两个问题:1、各位版友们,你们锥上面的那层白色的氧化硅二氧化硅,用什么方法来洗掉呢?(图中使用后的锥上那白白的一层)2、有什么比较合适的方法来评价一个硅样品的杂质均匀度?求各种回复。
第6楼2012/07/23
1.领导的决定,不过仪器挪动的可能性不大--我们这边仪器一旦安装好,基本不动。2.习惯了就正常了——现在想想电脑放在左边也不好,毕竟距离样品近。
第7楼2012/07/23
哈哈 肯定不能忘记本行相关板块;一定会向你们学习的。
第8楼2012/07/23
哈哈 你们真是富裕啊。问题1,那些白色的是盐分吧,我们就是超声清洗的。建议你专门开个帖子,讨论你的问题;担心在这个帖子下面交流讨论这个,很多人看不见。
swordgang
第9楼2012/07/23
前处理设备微波消解仪,分析设备HPLC-ICP-MS,操作台比较乱,整天乱做呵呵
qinghui1988
第10楼2012/07/23
您好,您说的锥上面的那层白色的氧化硅、二氧化硅,我建议您可以用5%的HNO3擦洗,应该能洗掉,我没有做硅做的是硒,每次做完都用5%的HNO3擦洗,再用超纯水洗。
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