无机砷的测定，样品空白高

应助达人

会不会是预处理时As损失了啊

谢谢您的分析，不过实验前处理步骤都一样，试剂空白比样品还高没道理啊

前处理步骤如何啊

样品空白的荧光强度高于样品，并没有错，只能说你样品中的含量没有空白液中的多。仪器读出的样品荧光强度是减去了空白荧光强度的值，举个例子：样品空白100强度，样品10强度，事实上待测元素在样品中就是10强度的浓度，而你测的处理过的样品溶液强度应该是110，就像你说的10比100小并不是错误，只能说含量没空白多而已。
再说一下回收率很低，很有可能待测元素在基体中受到了抑制没能形成离子态，有可能消解体制，处理方法并不合适，这都有可能的。
这也是我的个人见解，大家有觉得不对的，欢迎质疑我啊

处理过程中有污染吗

谢谢您的分析，您说“样品荧光强度是减去了空白荧光强度的值”，我理解的是样品荧光值读数是减掉“标准空白”的结果，而不是减“样品空白”的。比如测出样品中的砷含量包括两部分，一部分是样品本身含的，另一部分是试剂引入的，而试剂引入的不就是做的样品空白嘛，所以要求样品本身实际含有砷多少，需要用测出的值减掉样品空白的啊。所以我认为样品空白高于样品是不太合理的。

不知道我说的对不对，请大家指正。

就是按照GB/T5009.11中无机砷测第一法做的

其实软件里显示的最后的样品荧光强度就是样品中待测元素的浓度（不包括试剂中引入的），而这个浓度可以直接带入公式了。标准空白是标准溶液中试剂的荧光强度，是标准系列中相关，跟样品没有多大关系

在我看来有两种情况。一种情况是玻璃器皿没有处理好（空白）；另一种是样品没有消解好，出现负干扰。