关于液质基线高

orifate plate这个部件允许砂纸打磨吗？

应助达人

Agilent的这个锥是可以拆下来打磨的（千万别在机器上原位打磨，会出大事的）。
用的是一种很高目数的砂纸（具体多少目数不知道，没问过工程师），反正手摸上去完全感觉不到一丝一毫的粗糙感，是随仪器原配的。

打磨过以后，用溶剂多超声几次，确保没有颗粒残留，然后擦干净就可以装回去了。

那个黄色的能抹掉，不知道你们有没有安捷伦的气质，用安捷伦的打磨砂纸就行
不过这个貌似影响不是特别大，我们的也是这样的，高温烤的。。
也可以用金属抛光剂来磨掉它，不过磨完了需要用正己烷泡掉，因为抛光剂是油性的
你可以给质谱调谐下，看看是不是仪器脏的原因，PPG调谐Q1和Q3，运行时间设置5min左右，看总离子流是否呈现往下掉的趋势，如果TIC一直是直线，能够说明质谱不脏，如果TIC图呈下降趋势，说明四级杆有污染、、、该清洗了
另外，基线这么高，看下离子源喷雾针部分是否有蓝色电火花，看看是否离子源放电了，如果放电了，好好清洗下离子源。

我们用的3200，据工程师说4000的oriface开孔比较大，四级杆是比较容易脏的

不知道你运行别的项目基线怎么样，有可能你这个物质的响应值就是低，所以基线高。

总之，先排除质谱的问题，质谱没有问题，再找找液相部分，包括你优化出来的离子对是否有问题。

目前只能想到这么多。。。

看来甲酸能把残留冲出来，如果没有砂纸打磨的话，可以拆下来甲酸水超声洗洗，再水洗，甲醇洗

谢谢！

谢谢！

问一下，测别的物质（离子对）也会这样吗？

问题就是这个硫酸酯这样。

其它的物质没什么问题。

是否跟该物质的MRM离子对有关？分子量过低，本身就容易受到较大的干扰