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请教基体改进剂空白过高原因

原子吸收光谱(AAS)

  • 按照国标配制基体改进剂,经过配制和MIBK提取,在空白液20ul,再加5ul基体改进剂进行测定,吸光度竟达4.999左右,几次结果差不多,石墨炉升温程序是仪器默认,另外我发现进样后产生张力较大的液滴,可能盐分浓度大的原因,在原子化过程中有青烟冒出,这可能就是导致吸光度过高的原因吧,在我将改进剂量减少至四分之一时,上述现象基本消失,吸光度也降到了0.020左右,基本可以接受,但这样是否能抑制干扰,就不得而知了。仪器为岛津AA-6800 谢谢!陈武明
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  • 第1楼2004/05/11

    分析什么东西?什么元素?说清楚。

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  • 第2楼2004/05/13

    测定铅,用纯水作空白,再加适量的基体改进剂,其他标准系列加入相同的基体改进剂。谢谢!

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  • 第4楼2004/05/15

    会不会是升温程序没有设好?

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  • 第5楼2004/05/15

    还是说不清楚!
    什么样品?是饮用水吗?为什么要用MIBK萃取再用石墨测定呢?

    chenwm 发表:测定铅,用纯水作空白,再加适量的基体改进剂,其他标准系列加入相同的基体改进剂。谢谢!

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  • 第6楼2004/05/17

    我这是在测试基体改进剂自身的空白,有些试剂虽然也是优级纯,但实际上还有许多杂质,尤其是作石墨炉,是不容忽视的,有报道有的纯水中也有较高的微量元素,基体改进剂可以应用许多元素,加入基体改进剂目的是改善基体机构,防止出现各类误差,如果加入基体改进剂引起本底过高,就失去了加入的意义。用MIBK提取目的就是除去金属元素。目前我未加入任何其他试剂,产生较大的吸光度,感到疑惑,请教各位同仁。

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  • 第8楼2004/05/18

    基体改进剂为12%的磷酸二氢铵,作空白时,纯水20ul再加5ul基体改进剂注入石墨炉,这样的空白应该是很低的,如果高,就影响样品的测定,由于空白高,所以还没有进行样品测定,目前经过经过反复的调整程序升温,并且开了氘灯,最低空白只能在A0.030左右,还是不能接受,望同道预以指导,谢谢!

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