ICP-MS半导体应用

应助达人

质量轴看了吗

质量轴不偏

应助工程师

Si基体没弄干净，导致Si在锥上又生成SiO2了？看看锥表面是不是和以前不太一样了？
用HF HNO3混合酸泡泡锥尖，以前我也这么干过
Cool Plasma的调谐指标变了么？以前是59>25000，同时39 40<1000 56<100

用HF HNO3混合酸和SiO2反应？ 高端啊

调楷结果高了不少啊

新换的采样锥；截取锥用稀硝酸棉签擦过水冲洗（看着和新的一样）；放大看锥孔无变形和扩大；但结果还是不行。
对半导体用的是1ppb调谐液，冷模式下厂家就要求Co大于1000，其他敏感元素Na K Al Ca Fe<100即可。
但现在我测得水中敏感元素特别是Na几乎10cps，调谐信号降低，同时水中和纯酸中的敏感元素信号降了5-6倍，个人怀疑是灵敏度下降所致。但一直找不到有效措施改善。
此外RSD偏大，也找不到有效措施改善。焦急中……
还想请教的是：怎么判断Si基体去干净了没呢

应助工程师

灵敏度偏低无非就是雾化器、双锥和离子透镜了，实在还不行就把八极杆也拆洗一下。最后最后还是不行考虑加加检测器电压，不过这么低含量的目标元素，按说检测器也不必加电压的
Si在Cool Plasma下可以通过监控amu=45来确定

那就试试八级杆拆洗好了。
Si还是得在He下监控28来确定，用HF冲洗，28的CPS由1000+降到300+，cool下45或44就不这样。

应助工程师

就纯水来说，也许是水质变好了？监控下amu=11看看