平衡式驱动ICPMS

找到了7900的配件清单，还是有屏蔽炬套这么说依然不是平衡式驱动了？

这个可奇怪了。。。。。那屏蔽炬的作用到底是使三匝线圈的前后电压相同呢，还是有其他作用呢？

平衡式驱动，实际就是虚拟接地技术，通过施加相位差180度的两路射频，模拟等离子体接地。目的是减少锥口的二次放电，降低干扰。
安捷伦一直都使用专利的屏蔽矩技术，屏蔽矩实际与地相连，真实接地，也是消除二次放电。但相比虚拟接地，对离子能量的控制要好一些。
同时最初屏蔽矩的出现，与1994年安捷伦采用的冷等离子体模式也有关系，有它方便冷、热焰模式的切换。
还有一种叫交错线圈，是varian消二次放电技术，从Jena彩页上看可能接手后不再使用了

平衡式驱动貌似是和“变频等离子体电源”相关的吧？而屏蔽炬的存在就是因为固定频率下，线圈和ICP之间会有一个。。。。怎么说好呢？总之结果就是固定频率前提下，线圈之间会存在一个电压差，因此用屏蔽炬来达到消除电压差的目的。
但7900的宣传有点看不懂，耗材里面有屏蔽炬；宣传手册里面的“数字控制高速频率匹配”，这个看起来特别像变频等离子体的意思
迷惑了

（1）消耗品手册里有这个货号，就代表它一定是耗材？
（2）高频匹配，应该是指 待测样品基体变化时，反射功率能快速匹配，而非 等离子体频率（27.12 MHz或者40.68 MHz）变化

1、好吧，这个我没阐述清楚。其实我也没认为它是耗材，只是说如果是变频电源的话，那么应该是不需要屏蔽炬的。反之，如果有这个东西存在，那么是否可以证明依然需要匹配箱。
2、看过使用匹配箱的原理，大致就是需要一个电容来变换以匹配功率。但如果是变频电源的话，是通过电子电路来控制频率变换从而达到匹配的功效。换句话说，电子电路的变化明显要比机械式电容的变化要快得多。
个人的理解，如有误请指正。

timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:（1）消耗品手册里有这个货号，就代表它一定是耗材？
（2）高频匹配，应该是指 待测样品基体变化时，反射功率能快速匹配，而非 等离子体频率（27.12 MHz或者40.68 MHz）变化

你混淆了概念，所谓“变频”设计，如上面所讲是匹配样品基体变化，如从水相到有机相，等离子体负载是不一样的，所以RF发生器需要变频设计。
二次放电：等离子体本身是电中性，但由于接口锥接地，因此与锥的零电压相比，存在一定电位差，若不消除会产生放电现象，这并不是在线圈和ICP之间。
如果ICP与线圈之间放电，你的线圈早就打穿了，这也就是很多厂家采用虚拟接地，常出现的问题。

好吧，回头我再看看吧。做化学的看物理方面真心觉得吃力。谢谢了
所谓“变频”设计，如上面所讲是匹配样品基体变化，如从水相到有机相，等离子体负载是不一样的，所以RF发生器需要变频设计。
这点，说说我的理解：首先我知道从水相到有机相，等离子体的负载是不一样的，需要进行匹配。。。但匹配有两种方式可以完成：一种是RF频率发生变化——这个貌似就是Thermo的iCap-Q，这种方式无需匹配箱，同时是一种“平衡式驱动”；另外一种是频率固定，通过机械式的电容变动达到匹配的目的，需要匹配箱，同时是一种“非平衡式驱动”方式。
呃。。。貌似我真的混淆了

iCAP-Q 的射频频率是固定的，27.12MHz。若如它宣传的无需匹配箱，那可能是自激式设计，跟平衡驱动无半毛钱关系

拜亚动力T90(v3022870) 发表: 好吧，回头我再看看吧。做化学的看物理方面真心觉得吃力。谢谢了
所谓“变频”设计，如上面所讲是匹配样品基体变化，如从水相到有机相，等离子体负载是不一样的，所以RF发生器需要变频设计。
这点，说说我的理解：首先我知道从水相到有机相，等离子体的负载是不一样的，需要进行匹配。。。但匹配有两种方式可以完成：一种是RF频率发生变化——这个貌似就是Thermo的iCap-Q，这种方式无需匹配箱，同时是一种“平衡式驱动”；另外一种是频率固定，通过机械式的电容变动达到匹配的目的，需要匹配箱，同时是一种“非平衡式驱动”方式。
呃。。。貌似我真的混淆了

这点您还真的错的，链接是THERMO的网站：http://www.thermoscientific.cn/product/icap-q-ICP-MS.html 新型、极为耐用的RF发生器采用快速动态频率阻抗匹配技术 ，