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ICP-OES干扰的消除

ICP光谱

  • 我们说IC-OES存在很多干扰因素，其中常见的有光谱干扰、基体效应、电离效应，大家都来说说你是如何消除这些干扰的。
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  • 该帖子已被版主-tang566加2积分，加2经验;加分理由:话题
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  • JOE HUI

    第1楼2018/01/25

    应助达人

    标准加入法，内标法，FACTA校正，更多的是外标法（无干扰情况下）

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  • abcpgf

    第2楼2018/01/26

    应助达人

    你们一般采用哪种？

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  • JOE HUI

    第3楼2018/01/26

    应助达人

    FACTA校正

    abcpgf(abcpgf) 发表:你们一般采用哪种？

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  • 风云变幻

    第4楼2018/01/26

    好专业，能科普吗

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  • abcpgf

    第5楼2018/01/26

    应助达人

    基体匹配、内标校正可以消除物理干扰。

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  • abcpgf

    第6楼2018/01/26

    应助达人

    看来你用的不错啊。

    JOE HUI(xurunjiao5339) 发表: FACTA校正

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  • JOE HUI

    第7楼2018/01/27

    应助达人

    主要就是金属中Fe对Pb,Cd的干扰

    abcpgf(abcpgf) 发表:看来你用的不错啊。

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  • abcpgf

    第8楼2018/01/27

    应助达人

    高含量Fe，Mg，Al，Ca对其他元素有明显干扰。

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  • Shy WONG

    第9楼2018/01/31

    应助达人

    光谱干扰 ：fact
    基体效应：稀释或者标准加入
    电离效应：加抑制剂
    95%以上的时间是是用外标法，觉得内标法麻烦。

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  • 不忘初心

    第10楼2018/01/31

    应助达人

    果然是老司机。

    Shy WONG(love418wh) 发表:光谱干扰 ：fact
    基体效应：稀释或者标准加入
    电离效应：加抑制剂
    95%以上的时间是是用外标法，觉得内标法麻烦。

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