【实战宝典】如何进行H2SO4分析?

小官人-闭关修炼中

2022/07/05

私聊

ICP-MS

题描述：如何进行H2SO4分析?
解答：
高纯度硫酸（H₂SO₄）一般用于清洗硅片上的元件，蚀刻所有上面的金属杂质及有机杂质。用于制造半导体的硫酸或任何其他化学物质，其中的杂质能严重影响设备质量和产率。比如，热处理步骤中，铁和铜能在硅中迅速扩散产生缺陷，导致设备性能降级。钠杂质可以通过晶片氧化物沿着Si/SiO2 界面迅速扩散，这会在栅极氧化层中产生电压变化，并最终产生与设备操作相关的问题。随着芯片变得高度集成化，对于小型芯片的需求越来越大，半导体制造对使用的化学物质纯度要求越来越高。10纳米晶圆厂使用的化学物质中允许的污染物水平可能不足以支撑5纳米的技术。

样品制备与分析

在半导体晶圆厂中，35%-38% 的盐酸是最常使用的，也较容易从供应商处获取。用于分析时，一般都使用超纯去离子水稀释两倍。在半导体晶圆厂中，最常用的是98%的H₂SO₄。对于ICP-MS 分析，一般用超纯水进行稀释10倍后上机分析。

典型的仪器工作参数