【实战宝典】如何进行盐酸的分析？

小官人-闭关修炼中

2022/07/05

私聊

ICP-MS

问题描述：如何进行盐酸的分析？
解答：
盐酸（HCl）是半导体芯片生产过程中重要的湿电子化学品（HCl），其主要用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸不断缩小，其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要，这是因为即使是少量杂质也会导致设备的失效。国际SEMI 标准规定的是金属杂质的最大浓度（SEMI 标准C27-07081 用于盐酸），而半导体设备的生产商对杂质浓度的要求往往更加严格，这样就给试剂供应商带来了更大的挑战。

样品制备与分析

在半导体晶圆厂中，35%-38% 的盐酸是最常使用的，也较容易从供应商处获取。用于分析时，一般都使用超纯去离子水稀释两倍后上机分析。

典型的仪器工作参数

RF 功率 (热)	1500 W
RF 功率(冷)	600 W
QID	打开
检测模式	脉冲
积分时间	1 s
重复次数	3次

主要的质谱干扰

m/z	Interference	Analyte
39	³⁸ArH, ³⁷ClH₂	K
40	⁴⁰Ar	Ca
51	³⁵Cl¹⁶O	V
52, 53	³⁵Cl¹⁶O H, ³⁷Cl¹⁶O	Cr
56	⁴⁰Ar¹⁶O	Fe
69, 71	Cl¹⁶O₂H₂	Ga
70, 72, 74	Cl₂	Ge
75	⁴⁰Ar³⁵Cl	As
77	⁴⁰Ar³⁷Cl	Se

质谱干扰去除方式

采用反应模式和冷等离子体两者结合使用的方式去除大多数的多原子离子干扰。为使用反应模式的效率最大化，可以使用 100% 氨气进行on-mass 干扰去除多原子离子干扰干扰，使用100% 氧气进行mass shift 进行分析物转移，比如砷元素（As），这个方法对干扰消除最有效。