型号: | 清洗/腐蚀 |
产地: | 日本 |
品牌: | MTK |
评分: |
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请联系:张先生
一、设备规格
晶片尺寸:2寸,4寸,6寸,8寸,12寸
晶片材料:碳化硅,硅,砷化镓,氮化镓,玻璃,LT
处理室数:1室,2室,3室,4室
药液:最多两种(共3种类型可选)
药液温度:高达80℃(超过80度以上需要追加选项)
可选设备:2流体喷射功能(推荐)。超音速喷嘴功能。
设施条件:纯净水,氮气(干燥),空气,电源,真空(运输)
附着粒子的数量:20个/晶片(0.08μm或以上大小)5 个/晶片(0.15μm以上大小)
金属污染物:1E10 atoms/ cm 2以下
刻蚀的均匀性:小于2%(使用dHF蚀刻热氧化膜的情况下)
液体化学药品再利用率:95%以上可循环使用
二、设备特点
1、晶片表面的粒子的数量非常少(可清洗25nm以上大小)
MTK拥有独特的室结构技术,在晶片处理过程中通过合理控制气流,液流,最合适的药液选择从而降低晶片表面的颗粒数。
例1)1%dHF 15秒处理(6英寸) 20個/W(0.3μm以上)
例2)DIW 30秒处理(6英寸) 5個/W(0.08μm以上)
2、药液,纯净水的消耗少
实施例
药液…1%dHF,20L/天
纯水…每枚晶片处理需要0.5~1L/分钟
3、高性能低价格
本公司从客户的角度出发,在满足客户对产品性能要求的基础上,努力降低产品价格。
例如通过独创的腔室结构,从而实现滴水预防,为了处理该滴水预防等,无需反吸由处理腔室结构,根据自己的设计。
此外,清洗装置采用独特的搬运方式的设计,从而实现小型低价。
对于“想要高性能的设备,却不想要高价”的客户来说是最完美的清洗设备。
4、MTK拥有其他公司不具备的技术,实现了占地面积小型化
独特的传送方式(不使用市面上出售的机器人)。
化学液体2和纯水冲洗,以完成在该室干燥之一的过程。我们已经采取了若干级立式室。
针对客户设计不同装置,提供最好的设计方案。
通过提供技术方案减少多余零件的使用。
5、可定制
我们可根据客户所需产品的性能,大小,期望价格等,提供不同设计方案。
材料的过度使用,不必要功能的过度设计将造成设备价格过高,MTK以客户为本,根据客需求的主次而提供设计方案。
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