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仪器简介：
·标准模式
·工业规格
·适合科研中心
技术参数：
测量方法：非接触式
测量原理：反射计
类型：手动的
测量样本大小： ≤ 8", 12"
活动范围：200mm x 200mm(8"), 300mm x 300mm(12")
测量范围：100Å~ 35㎛(Depends on Film Type)
光斑尺寸：40㎛/20㎛, 4㎛(option)
测量速度：1~2 sec./site
焦点： Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附带照明：12v 100W Tungsten-Halogen Lamp
尺寸： 500 x 610 x 640 mm
重量：45Kg
可选项目：
Programmable Auto Z Stage
参考样品(K-MAC or KRISS or NIST)
CCD摄像头
透射模块
应用领域：
半导体：Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe...
介质材料：SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,...
平板行业：(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3, ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide...
光学涂层：硬度涂层、增反射薄膜、Color Filters、封装及功能薄膜...
太阳能电池：Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..)
聚合物： PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR...
Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk
其他：示波管上的光阻薄膜材料与掩膜板、金属薄膜、激光镜...
主要特点：
测量迅速，操作简单
非接触式，非破坏方式
优秀的重复性和再现性
用户易操作界面
各个视图和储存数据的打印功能
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