仪器对比
关注
主要特点
超高真空兼容 |
优异的温度和束流稳定性 |
独立式的水冷结构，源与水冷可单独拆卸? |
适用于腐蚀材料的蒸发 |
低温区和裂解区之间具有良好的隔热性 |
大坩埚容积可达1000cc |
产品应用
MBE，表面科学，薄膜生长，样品制备以及II-VI半导体薄
膜研究和太阳能领域
适用于蒸发：硫、硒、砷等材料
技术参数
安装法兰 | DN100CF（O.D. 6.0''） |
腔内长度 | 200~500mm可选 |
腔内直径 | 36mm，56mm，94mm |
工作温度 | 高温区：300~800℃ |
低温区：100~400℃ | |
加热方式 | 低温坩埚区、裂解区：钽丝加热 |
温度稳定性 | ±0.1℃ |
温度测量 | K型热偶 |
烘烤温度 | 200℃ |
源数量 | 1 |
坩埚材料 | 石英，热解氮化硼，氧化铝， 可定制其他材料 |
坩埚容积 | 低温区坩埚容积1000cc |
冷却方式 | 低温坩埚区和裂解区 独立式水冷壁，源炉分开拆卸 |
售后服务
1年
否
有
免费提供远程终身技术服务
与用户协商
除耗材以及人为误操作引起的故障外
工作日2-4小时内予以响应
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