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亚科电子-超高分辨率电子束光刻EBL

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品牌

暂无

型号

超高分辨率电子束光刻EBL

产地

亚洲其他国家

应用领域

暂无

投影式

国产

.最小线宽<7nm

电子束

电子束直径<1.6nm

±0.1

4-8 英寸(standard),12 英寸(option)

超高分辨率电子束光刻EBL
Ultrahigh Resolution EB Lithography 

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。

超高分辨率的电子束光刻


加速电压:最高130keV
单段加速能力达到130keV,尽量减少电子枪的长度
超短电子枪长度,无微放电
电子束直径<1.6nm
最小线宽<7nm
双热控制,实现超稳定直写能力


售后服务

1年

技术人员现场培训

2个月1次

软件免费重装,硬件维修

24小时到达

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