高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H
报价 ¥100万 - 150万
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高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H
高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料（强电介质层、贵金属、磁性膜等）的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。
产品特性 / Product characteristics
有磁场ICP（ISM）方式-可产生低圧?高密度plasma、为不挥发性材料加工的专用设备。
可提供对应从常温到高温（400oC）的层积膜整体刻蚀、硬掩膜去除的刻蚀解决方案。
通过从腔体到排气line、DRP为止的均匀加热来防止沉积物。
该设备采用可降低养护清洗并抑制partical产生的构造和材料及加热机构，是在不挥发性材料的刻蚀方面拥有丰富经验的量产装置。
实现了长期的再现性、安定性
产品应用 / Product application
FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.
1年
是
有
技术人员现场培训
2个月1次
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