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光学图形化缺陷检测设备
晶圆、光罩等缺陷检测
列真公司在半导体光罩检测设备上积累了独自技术， 主产品 LODAS ™系列具有日本专利权的激光检测技术，可同时探测收集激光的反射光，透射光以及共聚焦，可一次性检查第三代半导体 SIC 等材料表面，背面和内部的缺陷，可探测最小缺陷为100 纳米，主要用于半导体光罩、 LCD 大型光罩的石英玻璃表面、内部、背面的缺陷检查 。将此项技术运用于第三代半导体材料的缺陷检查，将提升量产成品率将具有重要意义。
应用: SiC、GaN
半导体光罩（石英玻璃与涂层）、
石英Wafer Si Wafer
HDD Disk LT Wafer
蓝宝石衬底、
EUV光罩、
光罩防尘膜
可全面检测 表面、内部、背面的缺陷
外延缺陷
胡萝卜型缺陷
彗星缺陷
三角缺陷
边缘缺陷
衬底缺陷
微管缺陷
层错缺陷
六方空洞缺陷
1年
否
有
安装时培训一次
1年
保修期免费更换零部件
24响应
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