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Park NX-Hybrid WLI 将白光干涉测量引入AFM技术 用于半导体计量 Park NX Hybrid WLI是一款具有内置WLI轮廓仪的AFM，用于半导体和相关制造质量保证。 例如半导体前端、后端到高级封装的过程控制，以及研发计量。 它适用于那些需要在大面积上进行高吞吐量测量的设备，这些设备可以缩小到具有亚纳米分辨率和超高精度的纳米级区域。 |  |
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半导体计量的两种互补技术
WLI
白光干涉测量是一种光学技术，它可以对非常宽的区域进行成像，速度非常快，满足高吞吐量测量。
AFM
原子力显微镜是一种扫描探针技术，即使对透明材料也能提供精准的纳米级分辨率测量。
| 扫描区域 | 速度 | 横向分辨率 | 垂直分辨率 | 精度 | |
| WLI | 大 | 快 | 低 | 高 | 低 |
| AFM | 小 | 慢 | 高 | 非常高 | 高 |
WLI和AFM在视野,分辨率和速度方面完美结合。
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WLI应用需要比WLI 能力更高的分辨率和精度 √ 前沿的化学机械抛光计量和监测 √ Advanced Packaging √ 全掩模的热点和缺陷检测 √ 晶圆级计量 | AFM应用需要更大的区域和更高的吞吐量 √ In-line 晶圆计量 √ 长行程CMP轮廓表征 √ 亚埃级表面粗糙度控制 √ 晶圆检验与分析 |
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NX-Hybrid WLI 功能 Park WLI系统 Park WLI 支持WLI和PSI模式（PSI模式由电动过滤器变换器 支持） 可用物镜放大倍数：2.5X 、10X、20X、50X、100X 两个物镜可由电动线性换镜器自动更换 |  |
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WLI光学干涉测量
扫描 Mirau 物镜高度时，由干涉引起的光强变化可以计算每个像素处的样品表面高度
白光干涉测量 (WLI) 和相移干涉测量 (PSI) 是两种常用的表面表征技术
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NX-Hybrid WLI 应用
热点检测和审查
热点快速调查和热点缺陷自动审查
可以通过比较参考和目标样品区域的图像来检测图案结构的热点
WLI的高速“热点检测”可以快速定位缺陷位置，以进行高分辨率 AFM 审查
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1年
是
有
3-5人次系统操作/维护/保养培训
不少于一次免费现场保养维护
免费维修更换零件
24小时响应，48解决相关问题或者具体维修解决方案
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