普若菲特PRFT化学气相沉积设备PR-OP1200-TID2Z-150系列CVD系统
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化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
加热系统
设备功率：220V 5KW
炉膛材质：高纯氧化铝纤维材料
加热元件：HRE高温合金丝
可达温度：1200℃（<1小时）
连续温度：1150℃（连续）
温度精度：±1℃
热电偶:K型热电偶
可达加热速率：≤20℃/分钟
炉膛尺寸：Φ150mm*440mm
炉管尺寸：Φ50/Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
供气系统
设备含两路质量流量控制器（50、100、200、500Sccm可选）
压差范围： 0.05-0.4MPa
精度： ±1% FS
重复精度： ±0.2% FS
接口尺寸： Φ6.35mm双卡套接头
连接管道： 采用洁净抛光的气路专用耐腐不锈钢管
真空系统
抽速m/h(L/s)：4(1.1)
极限分压强-无气镇（Pa）：5×10-2
进排气连接口DN(mm）：KF25
用油量（L)：0.6L
压阻皮拉尼复合型规管：
测量范围：1.0×10-2～1.067×105Pa
测量精度：1.0*103Pa ~1.067*105 Pa ±0.15%的满量程
1.0×10-1～1.0×102Pa ±10%的读数
高真空手动挡板阀：KD25
波纹管：KF25*800
油雾过滤器：KF25
卡箍及链接管件(焊接）：KF25
外形尺寸：1100mm*1250mm*750mm
重量：约130KG
控制系统
1. 可预存15条温度曲线，避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦；
2.实验过程更加直观，操作更加便捷；
3.PRFT-101E嵌入式操作系统中英文互换图形界面，7寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式，非线性式样温度修正；
4. 具有超温报警、断偶提示、漏电保护等功能。
5. 具有预约启动功能。
7天
12月
安装调试现场免费培训
到货后7天内
24小时内
否
12天内
是
2天
12月
是
是
否
是
是
是
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技术参数；故障代码
不支持
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