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1. 产品概述
HORIC L200 系列 卧式 LPCVD 气相沉积系统，半导体客户端机台装机量大,可根据客户需求配置多工艺组合的机台。可提供先进成熟的 MES 系统解决方案.优异的工艺技术支持。
2. 设备用途/原理
HORIC L200 系列 卧式 LPCVD 系统，半导体客户端机台装机量大。可根据客户需求配置多工艺组合的机台。高可靠性、稳定性 Higher reliability ａnd stability。安全性能高：设备及所使用的元件符合国标和国际标准。可提供先进成熟的 MES 系统解决方案。优异的工艺技术支持。
3. 设备特点
晶圆尺寸 4、6、8 英寸，适用材料硅、碳化硅、硅基氮化镓。适用工艺 氮化硅、氧化硅、多晶硅、掺杂多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃。适用域 科研、化合物半导体。
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
卧式 LPCVD 系统信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于 卧式 LPCVD 系统报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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