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- 真空旋片泵
- ≥4m3/h
- ＜1 Pa
- 4-10Pa，恒压控制
- ＜2min
- 皮拉尼真空计
- φ135*120mm
- 可偏转数显行星样品台，偏转角度0-40°
- 恒功率磁控DC溅射电源，Max. 20W
- 触摸屏控制，一键式操作
- 20kg
- 两支；单靶溅射、双靶共溅射、叠层溅射
J20是一款低真空双靶离子溅射仪，基于磁控溅射原理，采用高性能旋片泵快速产生一个 小于3Pa的真空压强，搭配自主研发的旋转偏转样品台，在样品表面沉积一层更均匀稳定的导电膜层，广泛适用于追求更高分辨率或温度敏感SEM电镜样品、特别是3D粉末类样品的喷金、喷铂、喷镀铂金合金等用途。自动化程序控制，触摸屏操作，即插即用。
典型用户
| 用户单位 | 采购时间 |
|---|---|
| 国仪量子 | 2023-06-02 |
| 华南植物园 | 2023-06-20 |
| 深圳信息职业技术学院 | 2023-08-08 |
| Sejin Science | 2023-08-22 |
| 精细化工实验室 | 2023-09-04 |
| 安徽大学 | 2023-10-31 |
| 广东腐蚀科学与技术创新研究院 | 2023-11-14 |
| 海南大学 | 2023-12-06 |
| 香港科技大学（广州） | 2024-01-10 |
| 西交利物浦大学 | 2024-01-11 |
售后服务
1年
是
有
5人次以内培训
6个月一次
免费维修更换零件
24小时到达现场并维修
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【速普仪器】双靶磁控溅射仪喷金喷铂J20信息由深圳市速普仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于【速普仪器】双靶磁控溅射仪喷金喷铂J20报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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