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1.产品概述：
高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
2.设备用途：
高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大院校、科研院所进行薄膜材料的科研。
3.产品优点：
可对化学成分复杂的复合物材料进行全等同镀膜，易于保证镀膜后化学计量比的稳定。
反应迅速，生长快，通常一小时可获得一定厚度的薄膜。
定向性强、薄膜分辨率高，能实现微区沉积。
生长过程中可原位引入多种气体，对提高薄膜质量有重要意义。
容易制备多层膜和异质膜，通过简单的换靶即可实现
4.真空室结构:
球形结构
真空室尺寸:Ф300mm
限真空度:≤6.67E-5Pa
沉积源:Φ30mm,每次可装4块靶材，可实现公转换靶位；每块靶材可自转，转速5～60转/分；
样品尺寸，温度:1英寸，高800℃
占地面积（长x宽x高）:约1.8米x0.97米x1.9米
电控描述:全自动
工艺:片内膜厚均匀性：≤±5%
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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