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Kurt J. Lesker Company 的 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台在全球拥有100多台设备，是一种成熟、坚固和多功能的设计。SPECTROS建立在原始设计的成功基础上，改进了系统基础压力和抽空时间。腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、实时配方线程操作以及用于优化薄膜性能的众多功能，这些都是这种创新的设计提供的一些关键优势。®
SPECTROS 150与以下技术兼容：
1cc 或 10cc LTE 信号源（除热源外，最多 10 个信号源）
4 英寸热源（除 LTE 源外，最多 4 个源）
TORUS 磁控溅射源（最多 8 个 2“ 或 3” 源）®
电子束蒸发源（4口袋8cc，8口袋12cc，6口袋20cc）
上述技术的组合也可用
可根据要求提供定制配置
SPECTROS™ 150 的工艺室提供两种类型的高真空泵：标配 Pfeiffer 790 L/s 涡轮分子泵或可选的 Brooks CTI-8F 1500 L/s 低温泵。SPECTROS 150的任何沉积配置都可以选择这两种泵。Pfeiffer 790 L/s 是总体成本效益、高质量泵送的理想选择，尤其适用于低温和热蒸发。Brook CTI-8F 可用于需要尽可能低真空度的应用，特别是热蒸发和电子束应用。
右边的图表显示了配备的 SPECTROS 150 工艺室按泵类型划分的平均预期泵送性能，该工艺室清洁干燥，安装了 （5） TORUS 3“ Mag-keeper 源和 3 英尺长的 1.5 英寸金属柔性波纹管粗加工线。
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1年
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