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电子束相关的资讯

  • 电子束加热控制器研制
    成果名称电子束加热控制器单位名称中科院物理研究所联系人郇庆联系邮箱qhuan_uci@yahoo.com成果成熟度□正在研发 □已有样机 □通过小试 □通过中试 √ 可以量产合作方式√ 技术转让 √ 技术入股 □合作开发 √ 其他成果简介: 电子束加热是实验中经常用到的样品加热、蒸发和处理方式,加热中需要给灯丝提供电流、提供所需的高压电源甚至还需要束流检测和反馈控制。该电子束加热控制器集成了电子束加热所需的全部功能,可以在手动、恒压、恒发射电流、恒加热功率以及束流反馈等多种模式下工作。采用ARM为核心的主控系统和5.6寸触摸液晶屏,操作简便、界面友好。具备以太网口、USB口等多种数字接口,可实现数据存储输出、固件的远程更新和远程故障诊断。目前该设备已在国内外多家单位进行了尝试性推广,包括中科院物理所、清华大学、北京大学、复旦大学、中国科技大学、武汉物数所、美国伊利诺伊大学芝加哥分校等,反响很好。其主要技术指标为: 最大输出功率: 250W 输出电压范围: 0~2KV 输出电流范围: 0~125mA 灯丝电流: 0~3A 工作模式: 手动/自动(恒压、恒发射电流、恒加热功率、恒束流) 束流检测范围: 100pA~1mA 最小分辨率为1pA 应用前景: 主要用于电子束加热样品台、电子束加热蒸发源等装置,也可单独作为手动高压电源使用。应用范围广,估计每年国内市场需求在百套以上。知识产权及项目获奖情况: 发明专利:201410527768.4 201510220859.8
  • 电子束加热蒸发源研制
    成果名称电子束加热蒸发源单位名称中科院物理研究所联系人郇庆联系邮箱qhuan_uci@yahoo.com成果成熟度□正在研发 □已有样机 □通过小试 □通过中试 √ 可以量产合作方式□技术转让 □技术入股 □合作开发 √ 其他成果简介: 电子束加热蒸发源是采用电子束加热的方式对材料进行热蒸发,电子束加热方式具有污染小、加热集中、效率高的特点,适用于熔点高的材料的蒸发沉积。我们的电子束加热蒸发源采用超高真空兼容设计(CF35法兰),具有水冷、水冷温度检测、手动挡板、线性进样、高压接口、束流检测等功能。该蒸发源可以对棒状导电材料直接进行加热蒸发,也可采用多种材料的坩埚,对粉末、半导体以及绝缘体材料进行热蒸发。全部设计为自主开发完成,具有加热效率高、极限温度高的特点,可以完成熔点最高的金属钨的蒸发。该技术目前已在国内外多家高校和科研机构尝试性推广(中科院物理所、清华大学、北京大学、复旦大学、中国科技大学、华中科技大学、中科院武汉物数所、IBM实验室、匹兹堡大学等),收到一致好评。其主要技术指标为: 安装法兰: CF35 超高真空兼容性: 是 可烘烤至 200℃ 腔内直径: 34mm 腔内长度: 170mm~400mm可定制 源数量: 1 冷却方式: 水冷 束流检测范围: 0.1nA~10uA 灯丝电流: 0-2.5A 高压: 0-2500V 最高功率: 250W 蒸发温度: 高于 3000℃ 蒸发方式和尺寸: 源棒材 尺寸 (直径 1~4mm. 长度 20~100mm ) 金属坩埚 (钨、钼、钽可选;0.1cc、0.15cc、0.25cc、0.35cc、0.45cc).应用前景: 主要用于分子束外延系统以及其他超高真空设备中的高温金属材料、半导体材料等的热蒸发沉积。应用范围广,每年国内市场需求在百套以上。知识产权及项目获奖情况: 发明专利:201310052836.1
  • 一种有望替代电子束光刻的新技术
    目前光刻技术存在被美国“卡脖子”,不只是工业用的,包括科研用的电子束曝光机也只能购买到落后国外两三代的产品。而电子束曝光是由高能量电子束和光刻胶相互作用,使胶由长(短)链变成断(长)链,实现曝光,相比于光刻机具有更高的分辨率,主要用于制作光刻掩模版、硅片直写和纳米科学技术研究,是半导体微电子制造及纳米科技的关键设备、基础设备。3D纳米结构高速直写机的技术起源光刻技术严重制约着我国半导体工业及科研领域的发展。近年来,一种基于热扫描探针光刻技术的产品3D纳米结构高速直写机有望替代电子束曝光机。3D纳米结构高速直写机(NanoFrazor)的主要技术起源于上世纪九十年代,由诺贝尔奖获得者Binnig教授在IBM Zurich实验室所主导的千足虫计划。该计划原本的目标是用类似原子力显微镜探针的热探针达到1Gb/s的高速数据存储读写。图1为千足虫计划中,制备的热探针的扫描电子显微图像。[1]图1. 千足虫计划所制备的热探针的扫描电子显微图像。[1]2010年后,研究团队逐渐把研究热点从数据的高速读写逐渐转向了扫描热探针用于高精度灰度光刻技术(t-SPL)。随着t-SPL技术的逐渐成熟,2014年推出了首款商业化高精度3D纳米结构高速直写机,NanoFrazor Explore 图2b)。为满足市场的不同需求,2017年推出台式系统NanoFrazor Scholar,图2a)。[2]图2 不同型号的NanoFrazor。a)为台式NanoFrazor Scholar系统,b)为旗舰型NanoFrazor Explore。[2]随后,于2019年无掩模激光直写系统被成功地整合到了旗舰型NanoFrazor Explore系统中,实现了在NanoFrazor中从微米加工到纳米加工的无缝衔接。有望替代电子束光刻技术目前NanoFrazor的技术主要用于科研院所的高端纳米器件制备,已有集成激光直写的系统以加快大尺寸大面积微纳米结构的刻写。由10根探针组成的探针阵列已经在Beta客户端测试中。在和IBM苏黎世的合作项目中已经开始了用于工业批量生产的全自动系统的原型设计。。NanoFrazor的优势体现在以下几个方面。首先,NanoFrazor是首款实现3D纳米结构直写的光刻设备,其垂直分辨率可高达1nm。因此,此设备不仅可以制备在2D方向上高分辨率复杂图案的无掩模刻写,还可以制备3D复杂纳米结构,例如复杂的光学傅里叶表面结构,图3所示。[3]图3,用NanoFrazor制备的光学傅里叶表面结构。[3]第二,由于NanoFrazor的光刻原理是通过热探针直接在热敏胶上进行刻写,与热探针接触的胶体部分被直接分解,与电子束曝光(EBL)技术相比所制备的图案不会被临近场效应所影响。因此使用t-SPL技术制备的器件,光刻胶可以被去除的非常干净,从而改善半导体材料和金属电极的接触情况,提高电子器件的性能。图4为NanoFrazor工艺中所用的热敏胶和EBL工艺中所用的光敏胶在去胶工艺后的光刻胶表面残留情况。[4]图4 采用t-SPL技术和EBL技术去胶后光刻胶表面残留对比,图中比例尺为500nm。[4]第三, 由于NanoFrazor所采用的的t-SPL光刻技术,避免了电子注入对材料的损伤,特别适合电子敏感类材料相关器件的制备。与此同时NanoFrazor针尖虽然温度很高,但是和样品的接触面积只有纳米尺度,所以样品表面不会受到高温影响,样品表面温度升高小于50度。第四,传统光刻技术中,需要通过显影才能观察到光刻图案。而使用t-SPL技术进行光刻时,热敏胶直接被热探针分解,然后再通过同步成像系统可以立即得到刻蚀图案的形貌。同时使用闭环控制刻写深度,保证纵向1nm的刻写精度。在实际使用中,可以对样品表面已有的微结构成像,实时设计套刻图案进行刻写,非常适合科学科研和新品研发。此外,相比于传统的电子束刻蚀等技术产品,NanoFrazor可以在常温常压环境中使用,维护简单费用低。其主要耗材为热探针,耗材费用将低于目前通用的电子束刻蚀系统的耗材维护费用。科研领域的得力干将目前情况来看,国内和国外的主要用户都集中在科研院所。这一特点在推广尚属早期的国内市场尤为突出。QD中国正在尽全力把NanoFrazor和相关技术介绍给中国区的用户。NanoFrazor在国内的高精度3D光刻领域暂无竞争对手,在2D光刻领域与EBL存在着某些重叠。NanoFrazor产于中立国瑞士,受国际政治影响较小。热敏胶由德国AllResist公司生产销售,热探针目前仍然由IBM苏黎世供应,计划明年由德国IMS公司生产提供,不存在卡脖子问题。凭借强大的性能,NanoFrazor帮助科研人员在多领域中取得了一系列优秀成果。在光学方面,苏黎世联邦理工的Nolan Lassaline等人使用NanoFrazor制备了周期性和非周期性的光学表面结构。[3] 制备的多元线性光栅允许利用傅里叶光谱工程精确调控光信号。实验表面,使用NanoFrazor制备的任意3D表面的方法,将为光学设备(生物传感器,激光器,超表面和调制器)以及光子学的新兴区域(拓扑结构,转换光学器件和半导体谷电子学)带来新的机遇。该论文已于2020年经发表于Nature。在电子学方面,纽约城市大学的Xiaorui Zheng等人利用NanoFrazor制备了基于MoS2的场效应管。[4] 他们的研究结果表明,使用t-SPL技术制备的器件很好地解决了困扰EBL工艺的非欧姆接触和高肖脱基势垒等问题。器件的综合电子学性能也远优于传统工艺所制备的器件。该论文于2019年发表于Nature Electronics。在3D微纳加工方面,IBM使用NanoFrazor制备的纳米微流控系统控制纳米颗粒的输运方向,并成功分离不同大小尺寸的纳米颗粒,直径相差1nm的纳米颗粒可以用此方法进行分离[6]。该方法可以用于分离样品中的病毒等纳米物体。该论文于2018年发表于Science。IBM苏黎世研究院的Pires等人利用NanoFrazor的3D加工工艺,成功地制备出了高度仅为25nm的瑞士最高峰马特宏峰,如图5所示。[5] 后经吉尼斯世界纪录认证为世界上最小的马特宏峰。优于新颖的加工工艺和优异的3D加工精度,该论文与2010年发表于Science。图5 利用NanoFrazor制备的高度仅有25nm的世界最小马特宏峰。[5]在二维材料研究方面,NanoFrazor的热探针可以直接用于二维材料的掺杂[7],切割[8]和应力调制[9],开创了二维材料器件制备的新方法。论文于2020年发表于Nature Communications, Advanced Materials和NanoLetters等期刊上。目前国内用户对NanoFrazor在实验上的表现十分满意,已有国内用户在Advanced Materials等顶级期刊发表文章。关于QUANTUM量子科学仪器QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司(以下简称QDC)是世界知名的科学仪器制造商——美国 Quantum Design International 公司(以下简称QD Inc.)在全世界设立的诸多子公司之一。QD Inc.生产的 SQUID 磁学测量系统 (MPMS) 和材料综合物理性质测量系统 (PPMS) 已经成为世界公认的顶级测量平台,广泛的分布于世界上几乎所有材料、物理、化学、纳米等研究领域尖端的实验室。同时QD Inc.还利用自己遍布世界的专业营销和售后队伍打造一个代理分销网络,与世界其他领先的设备制造商合作,为其提供遍布全球的专业产品销售和售后服务网络,2007 年QD Inc.并购了欧洲最大的仪器分销商德国 LOT 公司,使得QD Inc.全球代理分销和售后网络变得更加完整和强大。由于在华业务的不断发展,QD Inc.于2004年在中国注册成立了全资中国子公司QDC。经过10多年的耕耘发展,目前QDC拥有一支高素质的科学技术服务队伍,其中技术销售及售后技术支持团队全部由硕士学历以上人才组成(其中近70%为博士学历),多年来为中国的顶级实验室和科研机构提供专业科学仪器设备、技术支持、以及科技咨询服务。这些优秀的雇员都曾被派往美国总部及欧美日等尖端科研仪器厂家进行专业系统的培训,经过公司十多年的培养,成为具有丰富的科学实验仪器应用经验的专家。他们为中国的研究机构带来了最尖端的产品和最新的科技动态,为中国科研人员的研究工作提供了强有力的支持。QDC作为引进先进技术设备进入中国的桥梁,靠着过硬的尖端产品、坚实的技术实力、一流的服务质量赢得了中国广大科研客户的赞誉。Quantum Design中国子公司还积极致力于发展与中国本地科学家的合作,并将先进的实验室技术通过技术转移进行商业化。目前Quantum Design中国子公司正立足于公司本部产品,积极致力于材料物理、纳米表征和测量技术、生物及生命科学技术领域的新业务。Quantum Design中国子公司已逐渐成为中国与世界进行先进技术、先进仪器交流的一个重要桥头堡。引用文献1. Eleftheriou, E., et al., Millipede-a MEMS-based scanning-probe data-storage system. IEEE transactions on magnetics, 2003. 39(2): p. 938-945.2. https://heidelberg-instruments.com/product/nanofrazor-explore/ .3. Lassaline, N., et al., Optical fourier surfaces. Nature, 2020. 582(7813): p. 506-510.4. Zheng, X., et al., Patterning metal contacts on monolayer MoS 2 with vanishing Schottky barriers using thermal nanolithography. Nature Electronics, 2019. 2(1): p. 17-25.5. Pires, D., et al., Nanoscale three-dimensional patterning of molecular resists by scanning probes. Science, 2010. 328(5979): p. 732-735.6. Skaug et al., Nanofluidic rocking Brownian motors. Science, 2018. 359: p. 1505-1508.7. Zheng, X, et al., Spatial defects nanoengineering for bipolar conductivity in MoS2. Nature Communications, 2020. 11:3463.8. Liu, et al., Thermomechanical Nanocutting of 2D Materials. Advanced Materials.9. Liu, et al., Thermomechanical Nanostraining of Two-Dimensional Materials. NanoLetters.关注Quantum Design中国官方微信公众号,了解更多前沿资讯!(Quantum Design 中国 供稿)

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  • 电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography)电子束直写系统 、 电子束曝光系统纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作的方法之一。 技术参数:1.最小线宽:小于10nm(8nm available) 2.加速电压:5-50kV 3.电子束直径:小于2nm 4.套刻精度:20nm(mean+2σ) 5.拼接精度:20nm(mean+2σ) 6.加工晶圆尺寸:4-8英寸(standard),12英寸(option) 7.描电镜分辨率:小于2nm主要特点:1.采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪 2.出色的电子束偏转控制技术 3.采用场尺寸调制技术,电子束定位分辨率(address size)可达0.0012nm 4.采用轴对称图形书写技术,图形偏角分辨率可达0.01mrad 5.应用领域广泛,如微纳器件加工,Si/GaAs 兼容工艺,研究用掩膜制造,纳 米加工(例如单电子器件、量子器件制作等),高频电子器件中的混合光刻(Mix & Match),图形线宽和图形位移测量等。
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  • 请联系:张先生一、设备简介纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。电子束光刻系统(EBL)又称电子束直写(EBD)或电子束曝光系统。 日本CRESTEC是世界上制造电子束光刻设备的厂商之一,其制造的电子束光刻机具有电子束稳定,电子束定位精度高以及拼接套刻精度高等特点,赢得了科研机构以及半导体公司的青睐。二、设备特点CRESTEC CABL系列采用恒温控制系统,使得整个主系统的温度保持恒定,再加上主系统内部传感装置,使得电子束电流稳定性,电子束定位稳定性,电子束电流分布均一性都得到了极大的提高,其性能指标远远高于其它厂家的同类产品,在长达 5 小时的时间内,电子束电流和电子束定位非常稳定,电子束电流分布也非常均一。三、设备参数型号CABL-UH(130kV)系列CABL-AP(50kV)系列电子发射枪/加速电压范围TFE(ZrO/W)/25~130kVTFE(ZrO/W)/5~50kV加速电压130 kV,110 kV,90 kV50kV,30kV电子束直径1.6nm2.0nm (研发) /3.0nm (量产) 最小线宽<10nm<10/20nm扫描方式矢量扫描(x, y)(标准)矢量扫描(r,θ),光栅扫描,点扫描(可选)矢量扫描(x, y)(标准)矢量扫描(r,θ),光栅扫描,点扫描(可选)高级光刻功能场尺寸调制光刻,轴对称图案光刻场尺寸调制光刻,轴对称图案光刻写场的尺寸30μm² ,60μm² ,120μm² ,300μm² ,600μm² , 1000μm² 30μm² - 1000μm² (50kV) (研发) 30μm² - 1500μm² (50kV) (量产)加工晶圆尺寸4/6/8寸,其他尺寸和形状的工件都可以用我们的柔性装置进行安装4/6/8寸CAD软件专用的CAD(标准),GDSⅡ转换(可选),DXF转换(可选)专用的CAD(标准),GDSⅡ转换(可选),DXF转换(可选)操作系统WindowsWindows
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  • 一次性培养皿 (电子束灭菌)
    一次性培养皿 (电子束灭菌)产品参数及型号:编号型号直径×高(mm)数量RMB(含税)3-1491-01ND90-15φ90×151箱(10张/袋×50袋)398.003-1491-51优惠装φ90×151套(10箱)3,980.00携带方便,采用叠放时不易横向滑动的结构等,已进行电子束灭菌。特点:● 外围四周有加强棱,叠放起来不易倒塌。 ● 透明度好,便于菌落观察。 ● 采用可防止盖子与主体吸附的构造,不影响通气性。 ● 底面有4分割点,便于对菌落的观察。规格:● 材质:PS(聚苯乙烯) ● 已进行电子束灭菌
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