【讨论】碱熔法测硅的空白太高，如何办？

是什么类型的铝合金?Si高的时候,20%NaOH20mL,HcL(1+1)20,H2O2少量几滴;
Si低的时候,HCL+HNO3+H2O(6+1+7)

0.25测得准确吗，是不是因为溶液中大量的钠离子干扰才测错误的结果呢？
如果这个结果没有问题的话，那就看si到底是什么地方产生的？因为使用的容器中没有si，那么si不会来自容器，可能有两个来源，一是试剂中，另外可能是来自空气中漂浮物或者操作中不注意引入的，因为si无处不在。所以要找出来源，才能消除它，降低空白。

另外，楼主是用ICP做的吗，ICP做si好像做的不是很好啊

是用ICP测试的，只是根据相关资料来测试，老兄有更好的测试方法吗，

建议楼上的换一下试剂，估计是试剂空白太高。

Si含量大概有多少？如果有0.1%以上可以使用重量法测，，，参考标准GB/T 6987.5-2001。

铸铝中高硅的测定还有HF溶样，硅钼黄光度法测试。

你现在测试的问题，你可以做一个试剂空白看看是不是试剂干扰。另外你用的水是什么级别的，也可以测试一下实验用水，看看水的空白。

我用的纯水测试时都有０．１９ＰＰＭ的值，不知是不是纯水的问题，但纯水是直接从纯水机接出来的，电导有１８．２Ｍ，都不知道是什么原因．

　　正常情况下，采用电阻值高达18.2兆欧的纯水不可能测出0.19ppm的Si，请好好找找原因吧。是不是纯水机出问题了？

我的纯水的空白更夸张啊，都0.7ppm啊！比楼主还郁闷，真的不知道是哪里出问题了。