C膜的厚度确实不容易精确控制,最好不要超过2.5nm,多摸索几次就知道镀膜条件了。镀膜后不仔细看还以为没镀上,太厚了就明显变黑了。FEI DualBeam nano lab 200是场发射的,只不过同时配有聚焦离子束切割功能。这个仪器的好处是如果你抛光后做不出EBSD,可以用聚焦离子束精磨表面得到EBSD,效果还不错,但还是不如硅胶抛光效果好。
hello_px 发表:有好些天没上这个论坛了,今天上来看到有这么多留言,非常感谢。
谢谢xfsummerwind提供的信息,抛光可能跟不同的材料有关,你说的SiO2溶胶好像最近Baeurer比较推崇;另镀C膜比较难掌握,你说1.5nm比较好,想问一下是否有个范围,另你们的镀膜仪是怎样控制厚度的,好像通常的C棒加热一般不太容易精确控制;另外你说的FEI DualBeam nano lab 200跟FEI Nova NanoSEM 200有什么区别吗,应该也是热场发射的吧。