讨论:雾化气压力(流量)是如何影响发射强度和背景强度的

为什么好的题目没有人参加讨论,郁闷111

那我说说我不讨论的原因吧，每次设好参数再做的，开一次机做二三十个样品，总不能做做改一下压力再做个样看看背景，强度吧．每次的样品又不重复，怎么看影响啊？

看来来你把问题没看清楚啊,我说的基本都是针对某类样品而言的,通过改变他来提高测定的灵敏度和信背比,影响很明显的,喜欢研究的朋友可以试试

我看清楚问题了，所以说我不具备条件啊．

气体流量的优化也是很有用的。可能大部分使用者多在使用仪器厂商推荐的条件而忽略了其优化。
载气流量对测量的影响较大，而冷却器和辅助气的影响较小（相对而言，冷却气的影响大一点）所以有些仪器的辅助气流量极低。
载气流量对信背比有一个最佳值。开始时，载气流量加大，进样量增多，进入ICP的量自然多，谱线强度增大，信背比会提高。但过了一定值后，载气再加大，速度太快，使进入ICP的粒子来不及激发而冲出ICP，同时流量过大的载气也使ICP温度降低。这样发射强度也会降低，信背比也变差。
值得一提的是，载气流量还影响最佳的观测高度。一般而言，流量增大会使最佳观测高度增大，原因同前。

所以说雾化器压力或流量的选择也是条件优化一个很重要的方面

希望大家对这个参数在分析时有所重视

我倒是尝试过！但是从我做的条件来看！我的雾化器压力从25psi到35psi变化，
功率从750到1350变化！实验下来，对我做的金属来看，基本上差别很小，所以我现在都用默认值！

载气流量的大小与分析时候的发射强度有关系，和背景强度的关系不是很大，但是我们载设计试验时要做载气流量对BEC（背景等效浓度）的关系图，以确定最佳的雾化气压力，但是由于发射光谱是多元素分析，不可能达到每个元素都到最佳，只能折中选择，通常是考虑最难的元素。