【求助】X荧光光谱仪排除干扰方法

这个不好排除，在无素周期表中太近了，有很多相同属性啊。

那经常有Si,Al总量不错，而单个物质有差异的情况发生，不知大家是如何解决的？

总量不错指的什么意思？是大多数情况下结果不错，偶尔有误差比较大的吗？你是熔片还是压片？

不知是否用的是EDX，在WDX中使用PET晶体，Si和Al不会有干扰啊。

总量不错。。。。不会使用了归一化法处理以后的数据吧。。。
至少目前看来WDX对耐才AL Si有成熟的测量方法的。

是WDX压片法做的。是用归一法的，还有就是Si和Al的总量和理论值基本一致，而单个元素（Si,Al）的含量差别很大.
当然，这是我在准备自己做压片法标准曲线时的尝试中发现的问题。用压片法制样，以无标样软件测试其数据后，按理论配比加入95%SiO2，再压片法制样，再次使用无标样软件测试其数据，发现Si和Al的总量和理论值基本一致，而单个元素（Si,Al）的含量差别很大。
请问这是因为基体改变引起的，还是说元素间的干扰会加大？

另外，我在做压片法的标准曲线。在建立曲线的过程中，以同一批理论标准品进行Al的标准曲线，看起来数据较为准确，标准曲线看起来也很好；而我将此批标准曲线同时做硅和铝的标准曲线时，二者都出现了比较大的波动，铝的标准曲线甚至出现了负斜率，请问各位大侠，这是什么原因？

你这个应该是矿物效应。

基材效应吧