大家认为x荧光法中最难突破的是什么?

标样是一问题，标准方法滞后

应助达人

标样制备周期太长，从申请立项到最终成品，没两三年功夫是出不来的，即便有数量基本也无法满足建立工作曲线的要求，求人不如求己，自配才是王道...
标准方法同理，周期长，工作量大，而且不保证操作简便，线性范围也不见得满足你的要求...
仪器维护咱能干，但要具体说咋突破那就免了...
方法的话，前几天在琢磨个事儿，不知道在熔剂创新方面能否有所突破，即一种兼容卤素的熔剂，当然与之配套的脱模剂也得更新

仪器方面如何降低仪器故障率，软件方面如何实现无标定量

压片方法的基体效应

一次能全元素分析

提供新待测样品的标准值，湿法和icp 也不是万能

太深奥，太难回答的一个问题了，任何一个设备有他存在的理论基础，必然有他的相反面，利用优势，避免或淡化缺点，都能为人类服务。

轻元素的强度下降问题,及仪器慢慢的损耗.

我现在感觉最头痛的就是易氧化物标样的留取和保存，没有简易的方法