linshuifen
第2楼2015/12/05
谢谢版友解答
我们现在有两个问题让人比较困惑。
1.一般而言都是采用XRD来确定结构,我们现在采用的则是选区电子衍射来定结构,我们注意到不同晶面的强度跟相同材料的XRD有比较大的差异,这是什么原因导致的呢?两种实验不是都由于满足布拉格衍射以及消光条件得到的衍射斑点吗?
2.高分辨会有一些假象,会不会是由于多重散射效应导致出现一些衍射禁止的斑点从而产生正方形的格子呢?其实我们采用NBD也得到了正方形斑点。另外我们是薄膜样品(<15nm),根据威廉姆斯书上的分析,200Kev电子的平均自由程是要大于15纳米的,那能不能定性的排除正方形可能是由假象导致的呢。