问题描述：半导体用超纯水如何分析？
解答：
超纯水（UPW）被广泛地用于半导体器件生产中所有湿法工艺步骤，包括晶片冲洗和化学品的稀释。在这些关键步骤中，可能会吸收来自化学浴和冲洗水中的污染物，然后通过一系列的化学和电化学反应沉淀到硅表面。在成品的重点区域中，如果金属污染物的浓度达到 50 ppq，就会改变集成电路部件的电气参数，导致其无法通过电气测试。因此，超纯水纯度测定至关重要。在 SEMI F63-0918《半导体加工中超纯水使用指南》中，除 B（50 ppt）和 Ni（3 ppt）外，26 种金属污染物的目标值应小于 1 ppt。
某Fab厂超纯水要求
ICP-MS分析超纯水受干扰元素，如下表，可以采用冷等离子体技术、碰撞反应池或两者相结合的技术消除相关干扰。
NexION 2000典型的超纯水背景等效浓度
NexION 5000 超纯水分析典型的检出限和背景等效浓度（热等离子1600W，超净间10000级）*[9]
NexION 5000 超纯水分析典型的检出限和背景等效浓度（冷等离子700W，超净间10000级）*[9]
以上内容来自仪器信息网《ICP-MS实战宝典》
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