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CMP化学机械抛光机
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| 型号： | AP200 |
| 品牌： | CTS |
| 产地类别： | 进口 |
| 产地： | 韩国 |
| 厂商性质： | 一般经销商 |
| 评分： |
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| 更新时间： | 2026/06/30 |
- 晶圆尺寸： 4-8寸
- 磨盘个数： 1
- 转速： 0 ~ 200 rpm
- 尺寸（L*W*D）： 1000 × 2030 × 2100mm
CTS化学机械平坦CMP设备
CTSAP200
进口化学机械平坦CMP设备
第一、产品简介：
韩国CTS公司的AP200型CMP抛光机是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的高端设备，可兼容4寸，6寸，8寸样品。
第二、产品主要特色：
1、CMP抛光头：采用气囊加载模式，核心区，边缘区，保持环三区压力控制，可得到良好的工业级抛光效果；
2、自动上下片，自动抛光，干进湿出；
3、抛光垫修整器：摆臂式设计，由10个传感器分别控制10个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；
4、抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；
5，工艺数据可实时监测；
6、可存储多个Recipe.
第三、核心技术参数：
抛光头 | 兼容4寸，6寸，8寸 |
抛光头摆动范围 | ±15mm |
抛光头转速 | 0 -200 rpm |
抛光头加压方式 | 气囊柔性加压背压功能（3区加压） |
抛光头压力范围 | 0.14-14 psi |
抛光盘尺寸 | 20英寸 |
抛光盘转速 | 0 -200 rpm |
蠕动泵 | 2个 |
抛光液流速 | 20-500 cc/min |
抛光垫修整器分区 | 10区 |
抛光垫修整器在线扫描速度 | 10sweeps/min |
抛光垫修整器下压力 | 3-20lbs |
抛光垫修整器转速 | 0-150rpm |
CMP后片内非均匀性WIWNU 1sigma，去边5mm | <5% |
CMP后片间非均匀性WTWNU 1sigma，去边5mm | <3% |
仪器尺寸 | 1000×2030×2100(W x L x H, mm) |
冷却系统 | 可选 |
四，应用实例：
CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜，STI等
工艺开发 可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发
- 保修期： 1年
- 是否可延长保修期： 是
- 现场技术咨询： 有
- 免费培训： 有
- 免费仪器保养： 6月1次
- 保内维修承诺： 免费维修更换零件
- 报修承诺： 48小时内响应
CTSCMP化学机械抛光机AP200由上海艾尧科学仪器有限公司提供，产地为韩国，属于进口化学机械平坦CMP设备，符合多项国家和国际分析标准， 广泛应用于电子/电气、航空航天等领域，CTSCMP化学机械抛光机AP200凭借其创新性与实用性，在化学机械平坦CMP设备用户中获得广泛关注。
据仪器信息网显示：该仪器已通过“仪器优选”认证，在产品性能、服务能力等维度表现优异。
根据艾尧仪器官方产品资料显示：CTSCMP化学机械抛光机AP200的晶圆尺寸为4-8寸，磨盘个数为1，转速为0 ~ 200 rpm，尺寸（L*W*D）为1000 × 2030 × 2100mm，CTSCMP化学机械抛光机AP200的价格为面议，具体型号是AP200，品牌为CTS。
在同系列产品中，您还可以选择以下型号:
产品名称 |
品牌 |
型号 |
产地类型 |
价格 |
|---|
客户服务热线：400-616-7676,1611（售前/售后支持）
官方链接：https://m.instrument.com.cn/netshow/SH104306/C310310.html
来源：上海艾尧科学仪器有限公司
工商信息
信息已认证
- 企业名称: 上海艾尧科学仪器有限公司
- 企业类型: 有限责任公司
- 信用代码: 91310230MA1K17UD9U
- 成立日期: 2018年07月06日
- 注册资本: 100万元
- 经营范围: 仪器仪表销售、维修,机械设备、环保设备、机电设备及配件、计算机软件及辅助设备、实验室设备、金属材料、...
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