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| 型号: | ELS-F125 |
| 品牌: | ELIONIX INC. |
| 产地类别: | 进口 |
| 产地: | 日本 |
| 厂商性质: | 一般经销商 |
| 评分: |
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| 更新时间: | 2026/06/30 |
ELIONIX INC.电子束曝光
ELIONIX INC.ELS-F125
进口电子束曝光
品牌:Elionix
型号:ELS-F125/F100/HS50
电子束曝光,电子束直写,电子束光刻
用途:利用电子束在抗蚀剂上书写纳米级图案,通过ELB设备曝光和显影,可用于加工sub-10nm的精细结构。
一、简介
ELS-F125是Elionix推出的世界上最早的加速电压高达125KV的电子束曝光系统之一,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)

ELS-F125具有以下优点:
l 超高书写精度
- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV
- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应最小化 @ 125 kV

l 高通量、均匀性好
- 超大视野书写:500um视场下10 nm线宽
- 高束流下电子束直径依然很小,高通量而不影响分辨率,2 nm 电子束直径@ 1 nA

l 界面用户友好
基于Windows系统的CAD和SEM界面:
-简单易用的图案设计功能
-易于控制的电子束条件

二、主要功能
l 主要应用
纳米器件的微结构
集成光学器件,如光栅,光子晶体等
NEMS结构,复杂精细结构
光刻掩模板,压印模板
l 技术能力
型号 | ELS-F125 | ELS-F100 | ELS-HS50 |
电子枪 | ZrO/W 热场发射枪 | ZrO/W 热场发射枪 | ZrO/W 热场发射枪 |
加速电压 | 125 kV, 75 kV, 25 kV | 100 kV, 50 kV, 25 kV | 50 kV, 20 kV |
最小束流直径 | Φ 1.7 nm (@ 125 kV) | Φ 1.8 nm (@ 100 kV) | Φ 2.8nm (@ 50 kV,1 nA) |
最小线宽 | 5 nm or less (@125 kV) | 6 nm or less (@100 kV) | 20 nm (@ 50 kV, 2 nA) |
电子束束流 | 5 pA to 100 nA | 20 pA to 100 nA | 1 nA to 1 μA |
视场范围 | Max. 3,000 μm x 3,000 μm | Max. 3,000 μm x 3,000 μm | Max. 3,000 μm x 3,000 μm |
Min. 100 μm x 100 μm | Min. 100 μm x 100 μm | Min. 100 μm x 100 μm | |
束流定位 | Max. 1,000,000 x 1,000,000 (20bit DAC) | Max. 1,000,000 x 1,000,000 (20bit DAC) | Max. 1,000,000 x 1,000,000 (20bit DAC) |
束流定位分辨率 | Min. 0.1 nm | Min. 0.1 nm | Min. 0.1 nm |
大样品尺寸 | 8" wafer or 7" square mask | 8" wafer or 7" square mask | 8" wafer or 7" square mask |
三、应用

ELIONIX INC.日本Elionix电子束曝光机ELS-F125由上海艾尧科学仪器有限公司提供,产地为日本,属于进口电子束曝光,符合多项国家和国际分析标准, 广泛应用于电子/电气、半导体等领域,ELIONIX INC.日本Elionix电子束曝光机ELS-F125凭借其创新性与实用性,在电子束曝光用户中获得广泛关注。
据仪器信息网显示:该仪器已通过“仪器优选”认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,入选电子束曝光近30天热度榜。
根据艾尧仪器官方产品资料显示:ELIONIX INC.日本Elionix电子束曝光机ELS-F125的最小线宽为5nm,电子束直径为1.7nm,束流电压范围为125kv,ELIONIX INC.日本Elionix电子束曝光机ELS-F125的价格为面议,具体型号是ELS-F125,品牌为ELIONIX INC.。
在同系列产品中,您还可以选择以下型号:
产品名称 |
品牌 |
型号 |
产地类型 |
价格 |
|---|
客户服务热线:400-616-7676,1611(售前/售后支持)
官方链接:https://m.instrument.com.cn/netshow/SH104306/C495339.html
来源:上海艾尧科学仪器有限公司