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德国Osiris晶圆CMP后清洗机
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| 型号： | CHEMIXX CMP |
| 品牌： | Osiris |
| 产地类别： | 进口 |
| 产地： | 德国 |
| 厂商性质： | 一般经销商 |
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| 更新时间： | 2026/06/30 |
- 清洗方法： 湿法清洗
- 设备类型： 单晶圆清洗
- 晶圆尺寸： 12寸向下兼容
- 相关技术： 单片清洗
Osiris湿法清洗设备
OsirisCHEMIXX CMP
进口湿法清洗设备
产品简介
CHEMIXX CMP 30pm是一款专门为晶圆双面清洗设计的系统，独立系统，占地面积小，非常适合有限的空间。具有4路化学液清洗，兆声清洗，PVA刷洗，去离子水冲洗等清洗模块，对晶圆有超强的清洗能力。
产品特色
÷ 晶圆最大 300mm PVA
÷ 双面清洗双面刷洗
÷ PVA双面刷洗
÷ 支持4路化学液清洗，包括氨水与SCI
÷ 工作台含驱动组件，用于晶圆低速旋转（50-100 rpm）
÷ 化学清洗臂含 4 路化学液
÷ 具有去离子水和稀释氨分配的水坑喷嘴
÷ 具有去离子水的 BSR（背面冲洗）喷嘴
÷ 具有带有流通孔的工艺室
÷ 标配三种不同化学品供应系统
÷ 工艺室外的手动去离子水枪。
÷ 化学液可加热，最高可达 60°C（最高85°C ）
÷ 外部可更换化学液
÷ 支持兆声清洗
÷ 支持高压等离子水冲洗
技术数据
÷ 衬底尺寸: ?200 mm (?8 inch) 或 ?300 mm (?12 inch)
÷ 电机转速: 最大 3.000 rpm, 步长 1rpm
÷ 电机加速: 1 至 999.9 秒，步长 0.1 s
÷ 工艺腔室: 由 PP 白色制成（可选 PVDF)
- 保修期： 1年
- 是否可延长保修期： 是
- 现场技术咨询： 有
- 免费培训： 有
- 免费仪器保养： 6月1次
- 保内维修承诺： 免费维修更换零件
- 报修承诺： 48小时内响应
德国Osiris晶圆CMP后清洗机CHEMIXX CMP由上海艾尧科学仪器有限公司提供，产地为德国，属于进口湿法清洗设备，符合多项国家和国际分析标准， 广泛应用于电子/电气、半导体等领域，德国Osiris晶圆CMP后清洗机CHEMIXX CMP凭借其创新性与实用性，在湿法清洗设备用户中获得广泛关注。
根据艾尧仪器官方产品资料显示：德国Osiris晶圆CMP后清洗机CHEMIXX CMP的清洗方法为湿法清洗，设备类型为单晶圆清洗，晶圆尺寸为12寸向下兼容，相关技术为单片清洗，德国Osiris晶圆CMP后清洗机CHEMIXX CMP的价格为面议，具体型号是CHEMIXX CMP，品牌为Osiris。
在同系列产品中，您还可以选择以下型号:
产品名称 |
品牌 |
型号 |
产地类型 |
价格 |
|---|
客户服务热线：400-616-7676,1611（售前/售后支持）
官方链接：https://m.instrument.com.cn/netshow/SH104306/C495326.html
来源：上海艾尧科学仪器有限公司
工商信息
信息已认证
- 企业名称: 上海艾尧科学仪器有限公司
- 企业类型: 有限责任公司
- 信用代码: 91310230MA1K17UD9U
- 成立日期: 2018年07月06日
- 注册资本: 100万元
- 经营范围: 仪器仪表销售、维修,机械设备、环保设备、机电设备及配件、计算机软件及辅助设备、实验室设备、金属材料、...
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