型号: | 半自动12英寸快速退火炉RTP |
产地: | 上海 |
品牌: | 量伙 |
评分: |
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详细介绍:
设备规格:
适应于 2英寸-12英寸 晶圆或者最大支持 300mmx300mm 样品;
退火温度范围 300℃-1350℃;
升温速率 ≦150℃/sec(裸片);
温度均匀性 ≦±1%;
真空腔体(可选配常压腔体或正压腔体);
冷却方式包括水冷和氮气吹扫;
MFC控制,3-5路制程气体。
工艺应用:
快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);
离子注入/接触退火;
高温退火;
高温扩散;
金属合金;
热氧化处理。
应用领域:
化合物半导体(砷化镓、氮化物、碳化硅等);
多晶硅;
太阳能电池片;
MEMS;
功率器件;
IC晶圆;
LED晶圆。
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