| 型号： | LH-RTA-S801 |
| 产地： | 上海 |
| 品牌： | 量伙 |
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设备规格
1.全自动操作模式；
2.Robot取放片；
3.适应于 6英寸-8英寸 Wafer；
4..冷却方式包括水冷和氮气吹扫；
5.MFC控制，3-5路制程气体;
6.SEMI认证。
工艺应用:
快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN)；
离子注入/接触退火；
高温退火；
高温扩散。
金属合金；
热氧化处理；
应用领域：
化合物半导体（砷化镓、氮化物、碳化硅等）；
多晶硅；
太阳能电池片；
MEMS；
功率器件；
IC晶圆；
LED晶圆。
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