型号: | EVG620/EVG510 |
产地: | 奥地利 |
品牌: | |
评分: |
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技术/销售热线: 吴先生
一、简介
EVG501是一种高度灵活的晶圆键合系统,可处理从单芯片到150 mm(200 mm键合室的情况下为200 mm)的基片。该工具支持所有常见的晶圆键合工艺,如阳极,玻璃料,焊料,共晶,瞬态液相和直接键合。易于操作的键合室和工具设计,让用户能快速,轻松地重新装配不同的晶圆尺寸和工艺,转换时间小于5分钟。这种多功能性非常适合大学,研发机构或小批量生产。键合室的基本设计在EVG的HVM(量产)工具上是相同的,例如GEMINI,键合程序很容易转移,这样可以轻松扩大生产量。
二、特征
带有150 mm或200 mm加热器的键合室
独特的压力和温度均匀性
与EVG的机械和光学对准器兼容
灵活的设计和研究配置
从单芯片到晶圆
各种工艺(共晶,焊料,TLP,直接键合)
可选涡轮泵(<1E-5 mbar)
可升级阳极键合
开放式腔室设计,便于转换和维护
兼容试生产需求:
同类产品中的最/低拥有成本
开放式腔室设计,便于转换和维护
最/小占地面积的200 mm键合系统:0.8㎡
程序与EVG HVM键合系统完全兼容
三、参数
最/大键合力:20kN
加热器尺寸:
150mm(最/小为单个芯片)
200mm(最/小100mm)
真空:标准0.1mbar(可选1E-5 mbar)
EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统,可处理zui大200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺,例如:真空、软、硬接触和接近曝光;也支持其他特殊的应用,如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷,每次更换都可在几分钟之内完成,而不需要专门的工程人员和培训,非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。
二、应用范围
EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统(MEMS)、硅片凸点、化合物半导体等领域,涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。
三、主要特点
u 支持背面对准光刻和键合对准工艺
u 自动的微米计控制曝光间距
u 自动契型补偿系统
u 优异的全局光强均匀度
u 免维护单独气浮工作台
u zui小化的占地面积
u Windows图形化用户界面
u 完善的多用户管理(用户权限、界面语言、菜单和工艺控制)
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