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Electron Beam Lithography System(EBL)
电子束光刻系统
应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs 兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix & Match），图形线宽和图形位移测量等。
超高分辨率的电子束光刻
技术参数：
加速电压：最高 130keV
单段加速能力达到 130keV，尽量减少电子枪的长度超短电子枪长度，无微放电
电子束直径＜1.6nm 最小线宽＜7nm
双热控制，实现超稳定直写能力
光束直径：<1.6nm①
最小线宽：7 nm（在130kV时）
加速电压：130 kV，110 kV或90 kV
载物台尺寸：8英寸晶圆（可以使用少于8英寸晶圆的任何其他晶圆）
售后服务
1年
是
有
技术人员现场培训
2个月1次
软件免费重装，硬件维修
24小时到达
超高分辨率的电子束光刻 信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于超高分辨率的电子束光刻 报价、型号、参数等信息，ASTchian客服电话：400-860-5168转4552，欢迎来电或留言咨询。
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