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国产
极限真空：5×10^（-9）mbar
温度：1200℃
6个1吋或3个2吋
脉冲激光沉积系统PLD-400是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备,该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。脉冲激光沉积系统PLD-400标配6个1inch靶材,靶材可以原位更换,配合RHEED和准分子激光器可以实现高质量薄膜的沉积。
晶圆尺寸：2 inch
极限真空：5×10-9mbar
温控：RT-1200°C
靶台数量：6个1inch 靶材，公自转设计
激光源：可选准分子激光器
可选：低温泵、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单、高压RHEED等
240天
1年
安装调试现场免费培训
到货后10天内
2小时内
是
1天内
是
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