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SES系列 8英寸多片硅外延系统
1、适用于 5-150 微米范围的硅外延工艺
Advanced reactor for 5-150µm Silicon Epitaxy
2、先进的感应加热和气流场技术提供了优良稳定的工艺性能
Advanced induction heating and gas flow field technology provide excellent and stable process performance
3、多片平板式设计，高容载量
Multi-wafer horizontal design, high capacity
4、自动化程度高、产能高、低运营成本
High automation and throughput, lower CoO/CoC
技术参数
Technical Parameters
1、晶圆尺寸 4、5、6、8 英寸
Wafer size 4”5”6”8"
2、适用材料 硅
Applicable material Si
3、适用工艺 N&P 硅外延
Applicable process N&P type Si epitaxy
4、适用领域 科研、集成电路
Applied field R&D， IC
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
8英寸多片硅外延系统信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于 8英寸多片硅外延系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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